一、應用范圍概述:
電解電容器生產用純水;
電子管生產用純水;
顯像管和陰極射線管生產用純水;
黑白顯像管熒光屏生產用純水;
液晶顯示器的生產用純水;
晶體管生產用純水;
集成電路生產用純水 ;
電子新材料生產用純水;
二、典型工藝流程
預處理系統-反滲透系統- 中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線sj器-拋光混床-精密過濾器-用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統工藝)
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線sj器-拋光混床-0.2或0.5µm精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM) ({zx1}工藝)
預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線sj器-0.2或0.5µm精密過濾器-用水對象 (≥17MΩ.CM)
({zx1}工藝)
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線sj器-0.2或0.5µm精密過濾器-用水對象 (≥15MΩ.CM) ({zx1}工藝)
預處理系統-反滲透系統- 中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線sj器-精密過濾器-用水對象 (≥15MΩ.CM) (傳統工藝)