DH-15WX涂料行業超純水設備，北京超純水設備，北京電子超純水設備，北京化工超純水設備
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應用范圍概述：
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗 電子管生產 電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 顯像管和陰極射線管生產配料用純水黑白顯像管熒光屏生產 玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水 液晶顯示器的生產 屏面需用純水清洗和用純水配液 晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制集成電路生產中高純水清洗硅片 硅片純水 光伏硅材料DI超純水設備-硅圓生長/切片清洗高純水 硅材料單晶硅DI
涂料行業用超純水的工藝流程
電池行業制備超水的工藝大致分成以下幾種：
1、采用離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點
2、采用兩級反滲透方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→{dy}級反滲透 →PH調節→中間水箱→第二級反滲透（反滲透膜表面帶正電荷）→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點 北京超純水設備，北京電子超純水設備，北京化工超純水設備
3、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點
涂料行業用超純水的工藝比較
1、{dy}種采用離子交換樹脂其優點在于初投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經常進行離子再生，耗費大量酸堿，而且對環境有一定的破壞性。
2、第二種采用兩級反滲透設備，其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高，但無須樹脂再生。其缺點在于相關膜原件需定期清洗或更換，水質相對來說不是太高，大都只能做到1us/cm左右，所以在不質要求更高的時候常采用一級反滲透后面再用混床（陰陽復床）把關。
3、第三種采用反滲透作預處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水最經濟，zhb的超純水制備工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續制取超純水，對環境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。
設備特點
為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的xjb和設備可靠性。
電子行業超純水設備適用于集成電路芯片、單晶硅、顯像管、液晶顯示器、計算機硬盤、線路板等工藝所需的純水和超純水制備.在嚴格執行ISO-9001國際質量體系標準的前提下,采用世界上{zxj}的反滲透膜元件.壓力容器和高壓泵、配以合理而又{gx}的前處理設備及后處理設備,使產品出水符合各類電子行業生產標準的超純水.控制系統選用PLC或計算機DCS程序控制,可實現自動起停、加藥及沖洗,自動監測各種運行參數,并可實現運行參數的儲存及打印 廣泛適用于： 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路 LCD、EL、PDP、TFT、玻殼、顯像管 超純材料和超純化學試劑 光導纖維、光盤 北京超純水設備，北京電子超純水設備，北京化工超純水設備
達到標準
純化水標準，注射水標準 顯像管、液晶顯示器用純水水質（經驗數據）
集成電路用純水水質
國家電子級純水標準
美國SEMI標準
我們將一如既往地以“質量{dy}、信譽{dy}、服務{dy}”為宗旨，熱忱為廣大用戶提供{yl}的設備和{yl}的服務，竭誠歡迎新老客戶光臨指導。
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