二硫化鉬涂層的制備方法很多,主要有物lq相沉積、化學氣相沉積、電鍍、化學鍍等。在過去很長一段時間里, 制備MoS2 薄膜的方法主要是真空等離子濺射技術。這種方法能嚴格控制薄膜的厚度, 且能提供較好的薄膜性能。但是, 它存在以下缺點:
(1) 它對濺射靶的質量要求相當嚴格, 一般在生產高質量的薄膜之前需要更換一個新靶, 耗費較大;
(2) 相對于特殊形狀的基底需配置相應配套的濺射靶, 且為沉積形狀復雜的薄膜而采用的復雜的真空設備及其過程的耗費相當大;
(3) 濺射法制備的薄膜較理想的保存方法是硫化處理, 但這會使薄膜表面產生許多小孔, 易受化學侵蝕, 導致薄膜的性能下降;
(4) 不適合于沉積形狀復雜、大面積薄膜等。由于存在以上缺點, 所以人們開始尋求一種更好的方法來制備MoS2 薄膜。本文作者采用水煮法、刷鍍法(噴涂法) 和電泳沉積法等3種MoS2 的涂覆方法, 制備了二硫化鉬涂層, 并比較了各種涂層的性能。