溶液組成和操作條件
氧化鋅 8-12 g/l(掛鍍)
8-12 g/l(滾鍍)
氫氧化鈉 100-140 g/l(掛鍍)
120-140 g/l(滾鍍)
776添加劑 4-10 ml/l
776輔助劑 4-8 ml/l
776走位劑 3-7 ml/l
溫度 15-45℃
光劑消耗量
掛鍍
776添加劑 150 ml/KAH
776輔助劑 100 ml/KAH
776走位劑 50-80 ml/KAH
滾鍍
776添加劑 200 ml/KAH
776輔助劑 100 ml/KAH
776走位劑 50-100 ml/KAH
用 途 和 特 點(diǎn)
1. LFT-776添加劑屬于無(wú)氰堿性鍍鋅的添加劑, 但也同時(shí)適用于有氰堿性鍍鋅和鋅酸鹽鍍鋅
2. 能在原有氰堿性鍍鋅液中直接添加LFT-776 添加劑,可慢慢轉(zhuǎn)為無(wú)氰堿性鍍鋅,即加本產(chǎn)品后,停止加******直至******耗盡為止
3. 鍍層光亮好,結(jié)晶細(xì)致,適合于六價(jià)鉻及非六價(jià)鉻鈍化
4. 電鍍液性能更優(yōu)于有氰鍍鋅性能,具有更佳的分散能力和深鍍能力,電流效率高,沉積速度快,即使復(fù)雜工件也能對(duì)付
5. 鍍層的質(zhì)量?jī)?yōu)于有氰的鍍層,未經(jīng)鈍化,8um 厚鍍層,中性鹽霧試驗(yàn)也能達(dá)到24小時(shí)以上
6. 本工藝各種成分之比范圍較寬,易于維護(hù)