等離子刻蝕機美國RIE ICP

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適用于Si,SiO2,金屬，III-V,有機物等材料的刻蝕，系統有多達七種工藝氣體可以用于刻蝕氮化物、

氧化物以及任何需要氟基化學刻蝕的薄膜或基片（如碳、環氧樹脂、石墨、銦、鉬、氮氧化物、聚

酰亞胺、石英、硅、氧化物、氮化物、鉭、氮化鉭、氮化鈦、鎢以及鎢鈦）

型號有經濟型和gd型，有科研應用的型號和小規模及大規模生產的型號，產品xjb高。

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