KRI 霍爾 eH 200
上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾 eH200 是霍爾型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設計離子源. 霍爾 eH200 適用于小型真空腔內, 例如研發分析, 薄膜沉積和離子清洗. 霍爾 eH200 操作簡單是理想的生產工具.
KRI 霍爾 eH 200 技術參數:
型號
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eH 200
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供電
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DC magnetic confinement
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- 電壓
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40-300V VDC
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- 離子源直徑
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~ 2 cm
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- 陽極結構
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模塊化
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電源控制
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eHx-3005A
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配置
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-
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- 陰極中和器
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Filament or Hollow Cathode
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- 離子束發散角度
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> 45° (hwhm)
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- 陽極
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標準或 Grooved
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- 水冷
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無
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- 底座
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移動或快接法蘭
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- 高度
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2.0'
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- 直徑
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2.5'
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-加工材料
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金屬
電介質
半導體
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-工藝氣體
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Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
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- 安裝距離
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6-24”
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- 自動控制
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控制4種氣體
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* 可選: 可調角度的支架; Filamentless; Sidewinder
KRI 霍爾 eH 200 應用領域:
濺鍍和蒸發鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
表面改性, SM
直接沉積 DD