一、行業水質標準：
我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、國內外大規模集成電路水質標準。
二、行業對水質的要求：
光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
三、反滲透設備工藝流程
原水箱
儲存原水，設高、低水位控制。對系統的給水起調節作用，防止自來水給水不足的影響，同時也可對自來水中的雜質起一定的沉淀作用。（如水壓過低或過高引起的壓力傳感的反應）。
原水泵
提供預處理系統正常工作的動力源，為保持后序設備的正常運行，增加壓力。泵相應設置高過熱保護器、壓力控制器，出現故障自動報警。
多介質過濾器
采用多次過濾層的過濾器，主要目的是去除原水中含有的泥沙、鐵銹、膠體物質、懸浮物等顆粒在20um以上的物質。而且還可以使水中的有機物質、xj、病毒等隨著濁度的降低而被大量去除，并為濾后xd創造了良好條件。經過砂濾器原水濁度可降低至5mg/L以下。保證設備的產水質量，延長設備的使用壽命。
活性炭過濾器
利用活性碳的吸附能力有效地吸附原水中的有機物、游離性余氯、膠體、微粒、微生物、某些金屬離子及脫色等，使出水余氯含量＜0.1mg/L，所以被廣泛用于生活用水及食品工業、化工、電力等工業用水的凈化、脫氯、除油和去臭等。通常，經過活性碳過濾的水能夠去除63%-86%的膠體物質；50%左右的鐵以及47%-60%的有機物質。
離子軟化系統
R/O裝置為了溶解固體形物的濃縮排放和淡水的利用，為防止濃水端特別是RO裝置{zh1}一根膜組件濃水側出現CaCO3,MgCO3,MgSO4,CaSO4,BaSO4,SrSO4,SiSO4的濃度積大于其平衡溶解度常數而結晶析出，損壞膜原件的應有特性，在進入反滲透膜組件之前，應使用離子軟化裝置或投放適量的阻垢劑阻止碳酸鹽，SiO2，硫酸鹽的晶體析出.
保安過濾器
采用保安過濾器對進水中殘留的懸浮物、非曲直粒物及膠體等物質去除，使RO系統等后續設備運行gaq、更可靠。濾芯為5um熔噴濾芯，目的是把上級過濾單元漏掉的大于5um的雜質除去。防止其進入反滲透裝置損壞膜的表面，從而損壞膜的脫鹽性能。
反滲透系統
是一種反向遷移運動。是一種在壓力驅動下，借助于半透膜的選擇截留作用將溶液中的溶質與溶液分開的分離方法，它已廣泛應用于各種液體的提純與濃縮，其中最普遍的應用實例便函是在水處理工藝中。用反滲透技術將原水中的無機離子、xj、病毒、有機物及膠體等雜質去除，以獲得高質量的。通過反滲透裝置的水，可以達到國家飲用水標準。反滲透裝置脫鹽率≥99%，水回收率≥50%
四、應用范圍：
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏；
高品質顯像管、螢光粉生產；
半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
超純材料和超純化學試劑、超純化工材料；
實驗室和中試車間；
汽車、家電表面拋光處理；
光電產品；
其他高科技精微產品；
本文由“瀅源水處理設備”發布，轉載請注明，原文地址：http:///fanshentou/237.htm
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