高猛鋼表面拋光用P-1拋光機(jī)，小巧玲瓏搬運(yùn)方便
P-1金相試樣拋光機(jī)是專業(yè)針對(duì)金屬材料來(lái)進(jìn)行拋光的設(shè)備，進(jìn)而得到光亮如鏡面的試樣，一般拋光是金相試樣{zh1}一樣制作程序，試樣拋光后可進(jìn)行進(jìn)行分析。
一般拋光機(jī)可選則兩款機(jī)型，一款是單盤的一款是雙盤的，本章介紹的是單盤的金相拋光設(shè)備。
概述
適用于對(duì)經(jīng)磨光后的金屬材料進(jìn)行拋光，可獲得光亮如鏡的金屬表面，供在顯微鏡下觀察與測(cè)定金相組織。
金相試樣拋光的技術(shù)要求
拋光操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到{zd0}的拋光速率，以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響最終觀察到的組織，即不會(huì)zcj組織。這兩個(gè)要求是矛盾的。前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來(lái)去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深；后者要求使用最細(xì)的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。解決這個(gè)矛盾的{zh0}的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。首先是粗拋，目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有{zd0}的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能??；其次是精拋（或稱終拋），其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到最小。
拋光時(shí)，試樣磨面與拋光盤應(yīng){jd1}平行并均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時(shí)還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來(lái)回移動(dòng)，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會(huì)減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象；濕度太小時(shí)，由于摩擦生熱會(huì)使試樣升溫，潤(rùn)滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金則會(huì)拋傷表面。
為了達(dá)到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低，{zh0}不要超過(guò)500r/min；拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長(zhǎng)些，因?yàn)檫€要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕，有待精拋xc。
精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)提高，拋光時(shí)間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場(chǎng)條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。
技術(shù)參數(shù)
1. 拋盤直徑 φ200mm
2.轉(zhuǎn)速：1400r/min或900r/min（定制）
3.電源：380v、50Hz或220v、50Hz （定制）
4.外型尺寸 360X300X320mm
5.凈重 16Kg
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