黃銅掩膜版超薄0.05mm不銹鋼遮光片精細加工非標定制

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。

待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構成。其圖形結構可通過制版工藝加工獲得，常用加工設備為直寫式光刻設備，如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。

掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統）等。

掩膜版材質：

掩膜版根據基板材質的不同可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）。石英掩膜版使用 石英玻璃作為基板材料，光學透過率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃更為平整耐磨，使用壽命長，主要用于高 精度掩膜版，蘇打掩膜版則使用蘇打玻璃作為基板材料，光學透過率較高，熱膨脹率相對高于石英玻璃，平整度和耐磨性相對弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版；而凸版使用不飽和聚丁二烯樹脂作為基板材料，主要用于液晶顯示器（LCD）制造過程中的定向材料移印；菲林使用 PET 作為基板材料，主要用于電路板掩膜。