TJ金屬掩膜版激光精密切割硬掩膜微結構定制加工

華諾加工精細金屬掩模版 幅面350mm微孔網 超薄mask掩膜激光切割。加工材質 不銹鋼、銅、鎳、鉬 加工精度 ±  15um，加工幅面   300*240mm

掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版（mask）簡稱掩模，是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設計圖形，光線透過它，把設計圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質量。

硬掩模和掩膜板在半導體行業中起著非常重要的作用。硬掩模屬于半導體的生產工藝，是用于在晶圓表面上形成各種微細結構的模板。掩膜板則是印刷電路板(PCB)行業中常用的制版工具。

硬掩模主要用于在晶圓上進行微影工藝。微影技術是一種將光線投射在晶圓表面的工藝，通過硬掩模的微細孔洞，在有光的區域使光線通過，使得化學反應發生在預定的區域，從而形成所需的微細結構。

掩膜板主要用于印刷電路板(PCB)制作中的光繪制工藝。在印刷電路板(PCB)制作過程中，我們需要對電路進行繪制并進行光刻、蝕刻等一系列工藝操作。掩膜板就是印制這些電路圖案的模板。

在選擇合適的模板時，需要考慮到其應用領域、制作工藝、設備和制作成本等方面。如果需要進行微影技術，就需要使用硬掩模；如果需要進行PCB電路板制作，則需要使用掩膜板。同時還需要考慮制作難度和成本方面，選擇最適合自己實際需求的模板。

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