一、應用范圍概述： 電解電容器生產用純水; 電子管生產用純水; 顯像管和陰極射線管生產用純水; 黑白顯像管熒光屏生產用純水; 液晶顯示器的生產用純水; 晶體管生產用純水; 集成電路生產用純水 ; 電子新材料生產用純水; 二、典型工藝流程 預處理系統－反滲透系統－ 中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線sj器－拋光混床－精密過濾器－用水對象 （≥18MΩ.CM）（傳統工藝） 預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線sj器－拋光混床－0.2或0.5µm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM） （{zx1}工藝） 預處理－一級反滲透－加藥機（PH調節）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線sj器－0.2或0.5µm精密過濾器－用水對象 （≥17MΩ.CM） （{zx1}工藝） 預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線sj器－0.2或0.5µm精密過濾器－用水對象 （≥15MΩ.CM） （{zx1}工藝） 預處理系統－反滲透系統－ 中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線sj器－精密過濾器－用水對象 （≥15MΩ.CM） （傳統工藝） 三設備特點、 為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在