一、硅材料沖洗用高純水設備應用范圍概述： 電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗 電子管生產　電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 顯像管和陰極射線管生產　配料用純水 黑白顯像管熒光屏生產　玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水 液晶顯示器的生產　屏面需用純水清洗和用純水配液 晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制 集成電路生產中高純水清洗硅片 二、典型工藝流程 預處理系統－反滲透系統－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線sj器－拋光混床－精密過濾器－用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統工藝) 預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線sj器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）({zx1}工藝) 預處理－一級反滲透－加藥機（PH調節）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線sj器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥17MΩ.CM） ({zx1}工藝) 預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線sj器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）({zx1}工藝) 處理系統－反滲透系統－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線sj器－精密過濾器－用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝) 三、達到標準 顯像管、液晶顯示器用純水水質（經驗數據） 集成電路用純水水質 國家電子級純水標準 美國SEMI標準 四、設備特點 為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、