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此款等離子清洗機針對粉末或者顆粒的360度表面處理設備，通過旋轉機構帶動石英攪拌罐使樣品處于懸空位置達到360度清洗。
等離子清洗機作為一種微觀固體表面的處理設設備，是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子清洗機是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔等目的。
主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。
該清洗機內置高純石英倉體，采用了新型的電極結構設計和固態電源技術，使其有效容積增大，不同真空 氣體環境下容易匹配，且控制頻率穩定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機相比較，從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作，特別適用科學實驗 樣品清洗 和教學。
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設備型號 |
小號 |
中號 |
大號 |
滾筒 |
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供電電源 |
AC220V（AC110V可選) |
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工作電流 |
整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵) |
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射頻電源功率 |
333 |
333 |
333 |
150w |
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射頻頻率 |
13.56MHz |
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頻率偏移量 |
＜0.2MHz |
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特性阻抗 |
50歐姆，手動匹配 |
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耦合方式 |
電容耦合 |
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真空度 |
≤100Pa |
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腔體材質 |
高純石英 |
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腔體容積 |
2L(內徑110MMX深度220MM) |
2L(內徑110MMX深度220MM) |
發發發 |
發發發 |
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觀察窗內徑 |
Φ50 |
Φ50 |
Φ70 |
無 |
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氣體流量 |
10—100ml/min（其他量程可選） |
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過程控制 |
過程自動控制 |
過程自動控制 |
過程自動控制 |
過程手動控制 |
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清洗時間 |
自動開關 |
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開蓋方式 |
鉸鏈側開式法蘭 |
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外形尺寸 |
150*500*250mm |
450*460*370mm |
530*580*420mm |
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重量 |
222 |
22 |
222 |
40Kg |
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真空室溫度 |
小于65°C |
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冷卻方式 |
強制風冷 |
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標配 |
KF16真空管1米，kf16卡箍2個，不銹鋼網匣1個，電源線一根，說明書一本。 |
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