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高校實驗室小型離子磁控濺射儀

作者:鄭州科創實驗儀器設備有限公司 來源:zztk001 發布時間:2022-11-15 瀏覽:34
高校實驗室小型離子磁控濺射儀

小型濺射儀

KT-1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。


設備名稱

小型濺射儀

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

工作電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤500mA

真空

機械泵 ≤5Pa5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

10Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8/分鐘

樣品濺射源調節距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口

鄭重聲明:資訊 【高校實驗室小型離子磁控濺射儀】由 鄭州科創實驗儀器設備有限公司 發布,版權歸原作者及其所在單位,其原創性以及文中陳述文字和內容未經(企業庫www.zgmflm.cn)證實,請讀者僅作參考,并請自行核實相關內容。若本文有侵犯到您的版權, 請你提供相關證明及申請并與我們聯系(qiyeku # qq.com)或【在線投訴】,我們審核后將會盡快處理。
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