KT-1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。
設備名稱 |
小型濺射儀 |
控制方式 |
7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
工作電源 |
直流濺射電源 |
鍍膜功能 |
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 |
≤1000W |
輸出電壓電流 |
電壓≤1000V 電流≤500mA |
真空 |
機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 |
≤10Pa |
擋板類型 |
電控 |
真空腔室 |
石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 |
可旋轉φ62 (可安裝φ50基底) |
樣品臺轉速 |
8轉/分鐘 |
樣品濺射源調節距離 |
40-105mm |
真空測量 |
皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
預留真空接口 |
KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
|
|