設備采用先進的觸摸屏和PLC集中控制，裝有電腦自動換檔真空計和三路流量控制器，一套逆變偏壓，邊裝式加熱管四支，電腦PID自動控溫，兩個側裝式平面靶，二套中頻電源，因為采用先進的中頻電源，所以設備不但可以鍍制氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鈦、鎳、鉻、銅、金銀等等導電膜層，而且可以控制Si02等非導電膜層，其中不但鍍制膜層細膩而且鍍制速度非常快，兼有其他鍍法的優點，所以是一種性能非常優良的鍍膜設備，適用于門鎖、手表零件、合頁、五金等表面處理。
中頻設備主要機型及參數:
參數 型號 700型 800型 900型 1000型
真空室尺寸 ф700×1000 ф800×1000 ф900×1000 ф1000×1000
抽氣速率 １×105Pa~3×10-3Pa≤20min
極限真空度 ≤1×10-3Pa
系統配套 KT-400/2X-70
2X-15 KT-400/2X-70
2X-15 KT-500/2X-70
2X-15/ZLD-300 KT-500/2X-70
2X-15/ZLD-300 工件系統 行星式公自轉形式（轉軸數量8軸，可自定數量）
加熱方式 邊緣安裝不銹鋼加熱管加熱
離子轟擊 直流1000V或逆變脈沖1000V高壓轟擊
充氣系統 流量控制器控制送入工作氣體
燈絲裝置 配備燈絲輔助鍍膜裝置
磁控靶數量 2 2 2、4 2、4 濺射電源 中頻電源1臺 中頻電源1臺或2臺
工作方式 PLC半自動控制或PC+PLC全自動控制方式
工作氣體 Ar N2 O2C2H2
總功率 30KW 35KW 45KW 50KW
壓縮空氣 0.4~0.8MPa
水冷系統 水壓/水溫：≤25℃/≥0.25MPa(用戶自備)
中頻系列離子鍍膜機是先進的膜裝置，主要應用于鍍制各種高質量的光滑
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