什么是E光技術

E光技術是光能和射頻能量的wm組合，相互協同作用。核心技術主要有三點：射頻+光能+表皮冷卻系統．利用皮膚對光能的選擇性吸收引起靶組織和正常皮膚的阻抗差異，在光能強度較低的情況下強化靶組織對射頻能量的吸收，極大的xc了光能過強的熱作用可能引起的副反應，并且提高了顧客的舒適度，傳統IPL設備zl深度只達皮下4mm,依靠E光技術，滲透可達皮膚15mm,同時zl范圍大幅度提高．

射頻：利用高頻電磁波---射頻：產生的熱傳導作用，jq直達皮膚深層。利用皮膚的阻抗來產生能量；使細胞分子產生強烈的共振旋轉（800百萬次／秒的數量級）產生熱能，使皮膚底層的溫度瞬間升高，作用深度可達皮膚以下15 mm。

光能：E光是經過納米濾波技術，濾除對人體有害成份的光譜，使用530nm-1200nm的大范圍zl光譜，賦予其一定能量和強度釋放強脈沖光，輸出的光平穩、均衡、持久熱累計時間長。其中短波長用于zl血管性病變和色素性病變，實現美白嫩膚功能。長波段的光主要用于脫毛。

表皮冷卻系統：采用國內{zxj}的半導體制冷技術，表皮接觸式制冷，有效避免了光能和射頻能量的熱對皮膚的損傷，并且增加了表皮的阻抗使zl過程更加安全、舒適。