Halar ECTFE (poly(chlorotrifluoethylene-ethylene))是乙烯、三氟氯乙烯(CTFE)的交替共聚物。Halar ECTFE是半結晶和可熔融加工的含氟聚合物。
Halar具有出色的耐化學性能和優異的阻隔性能。工業上常用的化學試劑幾乎都不能對Halar產生任何影響。Halar能夠抵抗的化學品包括:強無機酸和有機酸、強堿、金屬刻蝕劑、液氧、除熱胺類(如苯胺、二甲胺)以外的所有有機溶劑。此外,和其它含氟聚合物一樣,Halar會被金屬鈉和鉀破壞。然而,Halar對氫氧化鈉和氫氧化鉀具有很強的抵抗作用。當然,抵抗作用的強弱會受到暴露時間的長短和溫度高低的影響。
Halar和其它含氟聚合物一樣會被某些鹵化溶劑輕微塑化,但這并不影響它的使用。一旦停止它與鹵化溶劑的接觸,進行干燥,機械性能夠恢復,這說明Halar沒有受到化學破壞。 Halar能夠抵抗syhed和一甲肼。Halar還有以下用途:使用濃氫氧化鈉溶液的氯氣和二氧化氯氣體洗滌器;使用鉻酸混合液的金屬酸浸槽和電鍍槽;暴露在硫酸-過氧化氫混合液中的半導體工作臺;濃酸的存貯裝置;氯酸鈉的生產裝置。