微納米氣泡協同低溫等離子體印刷廢氣處理處理設備
預處理段-活性氧微納米氣泡（ROS）：
活性氧微納米氣泡中擁有五種超高粒子能量（即：電離能、高速動能、分子間能、爆炸能、結合能），五種能量結合后使活性氧氣泡在高速運動中使液體被加熱到可以隨時發生化學反應的臨界狀態，微納米氣泡與涂裝霧強制接觸，使溶劑揮發、排走，大分子物質（主劑、固化劑中的樹脂）聚合后幾乎不溶于水，循環水不會被污染，只需定期回收沉降在其中的樹脂即可，循環水可繼續使用（無廢水外排）。
處理段-低溫等離子（DDBD)
組合式等離子處理設備，采用電暈和雙介質阻擋放電低溫等離子相結合的結構，前端設置電暈段，后端為雙介質阻擋放電低溫等離子段。該設備為集成設備，占地面積小，操作簡單，維護方便，即開即用。
電暈段利用靜電捕集的原理首先對廢氣中的 0.5 μm-10 μm 的顆粒物、霧狀水滴、 油滴進行去除；雙介質阻擋放電低溫等離子段利用高能電子的強裂解氧化能力對廢氣中的TVOCs、惡臭物質等氣態污染物進行凈化。采用兩段結合的組合方式既能利用低能耗的電暈段有效去除顆粒物、霧狀水滴等物質，節省低溫等離子段能量；又能使低溫等離子段放電穩定，提高能量利用率，加強對氣態污染物的凈化能力。 該設備在同樣的能耗下， 污染物去除率比電暈等離子提高 300%，比雙介質放電低溫等離子提高 80%。
末端處理段-深度氧化床（DOB）
廢氣經過低溫等離子體轟擊裂解后， 由于氣體在等離子體反應器中停留時間極短（小于 0.1 秒） ，少量生成的碎片粒子與羥基自由基、活性氧等自由基來不及反應，因此，在等離子體反應器后面配套深度氧化床單元，通過床體內部催化劑加速碎片粒子和活性氧、羥基自由基充分反應，以達到cdxc污染物和臭氧的目的，保證經此段處理完后的煙氣達標排放。
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