光亮堿性鍍銅工藝

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東莞市安麗特金屬表面處理技術有限公司

東莞市安麗特金屬表面處理技術有限公司成立于2009年，專業從事金屬與非金屬表面處理工藝與添加劑的研發、生產與銷售。可以為客戶提供表面處理工藝流程、電鍍添加劑、技術咨詢和原材料供應等服務，經過七年的發展，已成長為國內頗具影響力的表面處理技術解決方案供應商之一。公司產品已廣泛應用于五金、半導體、電子零件、通訊器材、珠寶首飾、衛浴等領域。
公司技術力量雄厚，先后與德國、新加坡等國家的知名供應商建立了長期的戰略合作伙伴關系。通過引進國外先進的表面處理化學品配方和原材料，與中山大學、湖南大學等國內知名高校進行技術合作，致力于新產品與新技術的開發。
公司本著“以質量求生存，以信譽求發展；客戶至上，合作共贏”的原則，持續穩定地為客戶提供高品質的產品。我們注重專業的銷售管理和售后服務理念，為客戶提供專業化、標準化的售后服務。我們期待與您共享環保科技，共創美好明天！
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ALT-3、4#光亮堿性鍍銅工藝

一、產品特點

1. 銅鍍層結晶細致，光亮平滑，孔隙率小，電流密度范圍廣，覆蓋能力{jj0}；

2. 鍍液可用氰化鉀或氰化鈉配制，效果同樣理想，雜質容忍度高；

3. 適用于銅鐵、銅、黃銅等不同基體的工件，尤其適合于鋅合金鑄件。

二、工藝參數與組成

組分名稱與操作條件	參考范圍	開缸標準
氰化亞銅（CuCN）	50-60g/L	55g/L
氰化鈉（NaCN）	70-100g/L	90g/L
氫氧化鈉（NaOH）	1-15g/L	10g/L
諾切液	25-35ml/L	30ml/L
ALT-3#光亮劑	1-4ml/L	2ml/L
ALT-4#走位劑	5-8ml/L	6ml/L
溫度	45-55℃	50℃
陰極電流密度	0.5-4A/dm²	2A/dm²
電壓	4-10 V
攪拌方式	陰極搖擺或移動
過濾	連續過濾(4-8周期/小時)
陽極	無氧電解銅（OFHC）

三、槽液配制

加入三分之二的水于鍍槽中,加熱至50℃；先加入計算量的氫氧化鈉或氫氧化鉀溶解后,再加入計算量氰化鈉或氰化鉀，攪拌至wq溶解。加入計算量的氰化亞銅（先用水溶成糊狀）,強力攪拌,直至wq溶解。加入2g/L活性碳粉,連續攪拌約1小時靜置,過濾，加入計算量添加劑后，用波浪狀的不銹鋼板低電流電解6-8小時即可試鍍。

四、添加劑的消耗補充：

ALT-3#光亮劑	80-100ml/KAH
ALT-4#走位劑	250-300ml/KAH
諾切液	20-40ml/KAH

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