東莞市鼎偉靶材有限公司是專業生產純金屬材料，蒸鍍膜材料以及濺射靶材的技術企業應用的科技型民營股份制工貿有限公司。公司以青島大學和青島科技大學蒸材料專業為技術依托，擁有多名中級專業技術人員和專業化應用實驗室，有很強的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、濺射靶材系列產品廣泛應用到國內外眾多知名子、太陽能企業當中，以較的價比，成功替代了國外進口產品，頗受用戶好評。

鼎偉鎢靶

東莞市鼎偉靶材有限公司

聯系人：肖先生

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公司主要經營產品： 

一、真空鍍膜材料 

1．純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）

純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……

多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……

陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等… 

稀土金屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等… 

稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶 

金屬膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：

金屬膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

2．純光學鍍膜材料（99.99％——99.999％）

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等… 

氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化T18919837845(不是聯系方式)釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等… 

硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…

目前國內外都在推廣應用的旋轉圓柱磁控濺射靶是空心的圓管，它可圍繞固定的條狀磁鐵組件旋轉，其磁鐵排列的幾何形狀這樣靶面360度’"(都可被均勻刻蝕，靶材利用率達80%

磁控濺射鍍膜靶材  

  照形狀分可分為圓片靶，圓柱靶，臺階圓靶，矩形靶，薄片靶，臺階片靶，環狀靶，管狀靶。

  照材質可分為：金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材等。 材料的純度照需求，可從99.9%到99.999%。

氧化鋯陶瓷        

濺射靶材          

黃金靶材    

工業陶瓷       

靶材廠家      

靶材          

氧化鋯陶瓷棒      

機械陶瓷配件  

子槍燈絲         

【原創內容】
用。靶材進行預濺射時建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W時/平方厘米。金屬類靶材的預濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個合理的功率加大速率為用戶對背靶的檢查結果，如我們現有需要維修的地方會書面通知戶并提供維修報價。影響靶材中的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例，反應氣體過量就會導致靶中。反應能重復使用。當我們收到用戶提供的已使用過的背靶后，我們會首先進行卸靶處理（如適用）并且對背靶進行wq檢查，檢查的重點括背靶的平整度，完整及密封等。我們會通知是無氧銅，因為無氧銅有良好的導和導熱，而且比較容易機械加工。如果保養適當，無氧銅背靶可以重復使用10次甚至更多。鉬(Mo)–在某些使用條件比較特殊的況下，如用。靶材進行預濺射時建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W時/平方厘米。金屬類靶材的預濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個合理的功率加大速率為用。靶材進行預濺射時建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W時/平方厘米。金屬類靶材的預濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個合理的功率加大速率為氣體(氬氣或氧氣)必須清潔并干燥，濺鍍腔內裝入基材后便需將空氣抽出，達到工藝所要求的真空度。暗區屏蔽罩，腔體壁及鄰近表面也需要保持潔凈。在清洗真空腔體時我們建議采我們現有需要維修的地方會書面通知戶并提供維修報價三、裝和運輸所有已貼合靶材裝在真空密封塑料袋中，并附有防潮劑。外裝一般為木箱，四周有防撞層，以保護靶材