PVD電鍍的簡介_不銹鋼進行PVD電鍍后有什么好處

PVD電鍍用無污染的物相沉積技術(Physical Vapor Detion：簡稱PVD)鍍鉻來替傳統的電鍍鉻涂層是近年來發展的趨勢，國內外不少研究機構進行了許多有益的嘗試，bao括電子束蒸法、離子束濺射、陰極電弧沉積以及磁控濺射等。其中電子束蒸發鍍膜效率較高，但其鍍膜方向性較強、均勻性較差、附著力低、不利于復雜外型工件的制備;陰極電弧沉積方法沉積速率較快，PVD電鍍但放電過程中產生大量的液滴難以xc，涂層表面光潔度和耐腐蝕性能受到較大影響，為xc液滴必須進行過濾，導致沉積速率大幅度下降。傳統磁控濺射方法制備的涂層沒有液滴問題，同時制備溫度較低，可以在各種基體材料(如鋼鐵、有色金屬、塑料等)上進行制備，但載能離子較少，PVD電鍍涂層速率較低，難以進行厚膜制備。上述各類鍍膜方法沉積速率一般在幾個微米/小時。而通用電鍍鉻一般要求厚度在50-150微米，若用傳統方法則意味著鍍10-30小時，涂層成本急劇上升。上述方法在進行厚膜制備時達到一定厚度后涂層生長速率降低，同時由于應力增大會導致涂層脫落，不能進行規?；墓I生產。

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pvd真空鍍膜的性能怎么樣_ PVD真空電鍍電鍍哪家好

pvd真空鍍膜，離子鍍膜膜層的均與性主要bao括成分均勻、組織結構均勻和膜厚均勻，最終保證膜層各種性能均勻。材料的性能由其誠分與組織結構所決定，pvd真空鍍膜膜層必須獲得所設計的膜系成分和組織結構均勻一致。薄膜是二維材料，膜的厚度是重要的材料技術指標。比如薄膜的干涉顯色，耐腐蝕性和耐磨性都與膜厚密切相關，膜厚均勻保證薄膜相關的性能均勻。

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千屹真空磁控濺射鍍膜——一種新穎的不銹鋼真空電鍍技術

真空電鍍真空磁控濺射鍍膜技能是一種新穎的資料構成與加工的新技能，是外表工程技能領域的首要構成有些。而其間的濺鍍，也是我們一般所聽到的磁控濺射技能，具有真空磁控濺射鍍膜層與基材的結合力強-附著力比蒸發鍍高過10倍以上，真空磁控濺射鍍膜曾細密，均勻等利益。

真空磁控濺射鍍膜需要使金屬或金屬氧化物蒸發汽化，不銹鋼真空電鍍而加熱的溫度不能太高，否則，金屬氣體堆積在塑膠基材放熱而燒壞塑膠基材.濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板方位可悠閑安排,薄膜構成前期成核密度高，可出產10nm以下的極薄連續膜,靶材的壽命長，可長時間自動化連續出產。

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