PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm ～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm ～1μm ，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。
PVD鍍膜技術(shù)的特點：
1、膜層與物件表面的結(jié)合力強(qiáng)，保色更加持久，耐磨性強(qiáng)
2、離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復(fù)雜的物件
3、膜層沉積速率快，生產(chǎn)效率高
4、可鍍膜層顏色種類廣泛
5、穩(wěn)定性高、環(huán)保
PVD鍍膜的整個工藝流程：QA品檢—上掛—清洗—烘烤—電鍍—出爐—下架—全檢
問：請問什么是PVD鍍膜？ 什么是PVD鍍膜機(jī)？
答： PVD(物理的氣相沉積)技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術(shù)的三個分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。近十多年來，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是最快的，它已經(jīng)成為了當(dāng)先進(jìn)的表面處理方法之一。
我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。
主要意思是指在真空條件下，在真空狀態(tài)注入氬氣，氬氣樁基靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。PVD鍍膜技術(shù)主要分為：真空離子鍍膜，真空濺射鍍，真空離子鍍膜。我們經(jīng)常說的PVD鍍膜就是指真空離子鍍膜，近幾年來，真空離子鍍膜技術(shù)發(fā)展是最快的，它已經(jīng)成為當(dāng)今社會先進(jìn)的表面處理方式之一。PVD鍍出的膜層硬度高，耐磨性強(qiáng)，耐腐蝕性好，化學(xué)性穩(wěn)定，而且膜層壽命長。
