PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm ～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm ～1μm ，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，鍍后不須再加工。

PVD鍍膜技術的特點：

1、膜層與物件表面的結合力強，保色更加持久，耐磨性強

2、離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的物件

3、膜層沉積速率快，生產效率高

4、可鍍膜層顏色種類廣泛

5、穩定性高、環保

PVD鍍膜的整個工藝流程：QA品檢—上掛—清洗—烘烤—電鍍—出爐—下架—全檢

PVD鍍鉻技術的優勢

1. wq無污染的生產工藝過程

在涂層前處理中，采用環保型的金屬清洗劑對工件表面進行去油和脫脂處理，烘干后工件放入真空室中進行PVD鍍鉻處理。鍍鉻過程以高純金屬鉻為原料，通入氮氣和氬氣等瓶裝氣體，在沉積鉻復合涂層的專用設備中，采用先進的等離子體源輔助電弧-濺射等先進技術，通過電場、磁場、等離子體和離子束流的作用，發生化學反應，實現了鉻復合涂層的生成。使用的原材料價廉易得，國內可以大量供應。在整個工藝生產過程中，沒有采用任何有毒有害的原料，是wq無污染的綠色環保生產技術。