濺射靶材

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      濺射靶材的發展

      各種類型的濺射靶材薄膜材料在半導體集成 電路 (VLSI) 、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等 方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年 以來，濺射靶材及濺射技術的同步發展，極大地滿足了各種新 型電子元器件發展的需求。例如，在半導體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導體薄膜替鋁 膜布線：在平面顯示器產業中，各種顯示技術 (如LCD、PDP 、OLED及FED等)的同步發展，有的已 經用于電腦及計算機的顯示器制造；在信息存儲產業中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新 這些都對所需濺射靶材的質量提 出了越來越高的要求，需求數量也逐年增加。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  高品質、高純靶材歡迎來電咨詢~~~

濺射靶材使用指南及注意事項

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      濺射靶材保持真空腔體尤其是濺射系統潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學雜質含量超標經常是由于不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。  

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金屬靶材

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

       濺射靶材使用指南及注意事項

       短路及密封性檢查  

       靶材完成安裝后需要對整個陰極進行短路檢查及密封性檢查， 建議通過使用電阻儀搖表的方式對陰極是否存在短路進 行判斷。在確定陰極不存在短路后，可以進行檢漏檢查，將水通入陰極確定是否存在漏水現象。

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