金屬靶材

北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

濺射靶材使用指南及注意事項

靶材保養  

為避免在濺射過程中因為不潔凈的腔體導致短路和起弧，有必要階段性的除去濺射軌道中間及兩側堆積的濺射物，這也有助于用戶可以連續以大功率密度進行濺射。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  高品質、高純靶材歡迎來電咨詢~~~

濺射靶材

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      磁控濺射靶材原理：

      磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射，其中直流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還可進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，如今，常用的有電子回旋共振(ECR）型微波等離子體濺射。

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濺射靶材清潔

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      金屬靶材可以通過四步清潔，第1步用無絨軟布清潔；第二步與第1步類似用酒精清潔；第三步用去離子水清洗。 氧化物及陶瓷靶材的清洗建潔用“無絨布”進行清潔。第四步在qc完有污垢的區域后，再用高壓低水氣的氬氣沖洗靶材。

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