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氧化銦錫靶材ITO靶材磁控濺射靶材

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北京晶邁中科材料技術有限公司

創(chuàng)建于2016年,是國內(nèi)有色金屬行業(yè)綜合性研究開發(fā)公司。現(xiàn)有員工100余人。我公司光學鍍膜材料中心以國內(nèi){lx1}的技術，多年來一直專業(yè)從事光學鍍膜材料及濺射靶材的研發(fā)與生產(chǎn)。靶材包括各種氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、復合物、金屬及合金等。通過嚴格控制生產(chǎn)、并持續(xù)改進、穩(wěn)步發(fā)展，致力為客戶提供{zy}質(zhì)的產(chǎn)品

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科研實驗專用氧化銦錫靶材ITO靶材磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

ITO 是一種N型氧化物半導體-氧化銦錫，ITO薄膜即銦錫氧化物半導體透明導電膜，通常有兩個性能指標：電阻率和透光率。多用于觸控面板、觸摸屏、冷光片等。

產(chǎn)品參數(shù)
中文名氧化銦錫化學式 In2O3-SnO2
分子量 428.343 熔點 287℃
密度 1.2g/ml 純度 99.99%
支持合金靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價！！
服務項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質(zhì)量保證，售后無憂！
產(chǎn)品附件：發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設備
質(zhì)量控制：嚴格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質(zhì)檢報告。
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

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