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東莞電漿拋光的工作原理

作者:東莞市天昊金屬表面處理設(shè)備有限公司 來源:dgthjs 發(fā)布時間:2014-07-11 瀏覽:166

  東莞電漿拋光游離電子和自由電子流體組成的物質(zhì)的第四種形態(tài)。如極高溫度的氣體就形成電漿,其特點(diǎn)是粒子間有很強(qiáng)的電力。日光燈的光和恒星內(nèi)部含有電漿。電漿物理學(xué)研究電漿的性質(zhì)。其主要目的是產(chǎn)生可控核融合(nuclear fusion),以便最終獲得能源。主要方法是用磁場保持等電漿“電漿約束”(plasma confinement)和電漿通電流、注入粒子或應(yīng)用無線電波等方式加熱電漿。運(yùn)用這種技術(shù)對物品進(jìn)行拋光就叫電漿拋光,有專門的電漿拋光機(jī)

  液態(tài)東莞電漿拋光原理

  此方法將待拋光工件浸入加熱的電解質(zhì)水溶液中,并對其施加正極性電壓,該電解液無公害且廉價低濃度,所施加的電壓為直流電壓,工件可以是不銹鋼、工具鋼、低碳鋼、銅、金和鋁等導(dǎo)電材料。在適當(dāng)?shù)墓ぷ鳁l件下,工件表面會出現(xiàn)穩(wěn)定的蒸氣氣體層,該氣體層會把被處理表面與電解質(zhì)水溶液隔開,從而導(dǎo)致表面與電解液蒸氣之間產(chǎn)生強(qiáng)烈的等離子體化學(xué)和電化學(xué)反應(yīng),使被處理表面產(chǎn)生陰極氧化,同時又使陰極氧化層受到化學(xué)侵蝕,在氧化速度與侵蝕速度相等時出現(xiàn)拋光效果,其表現(xiàn)為光潔度上升及反射率提高。當(dāng)氧化層最薄且又足以抵御侵蝕作用時,其反射率出現(xiàn){zg}值。微觀不平處的氧化層最薄,因此侵蝕總是發(fā)生在凸起部位。此外,被拋光表面被施加足夠高的電壓后,它和氣體層、蒸氣、電解液之間會產(chǎn)生很高的電場強(qiáng)度,這種強(qiáng)度也在微觀不平處得到強(qiáng)化。這些作用的綜合效果,使表面微觀凸起部位被削平,達(dá)到拋光效果。

  東莞電漿拋光,等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài),是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象,使氣態(tài)粒子部分電離,這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子。等離子就是在高溫高壓下,拋光劑水溶,在高溫高壓下,電子會脫離原子核而跑出來,原子核就形成了一個帶正電的離子,當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài),等離子態(tài)能量很大,當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r,頃刻間會使物體達(dá)到表面光亮的效果。


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