真空鍍膜機、鍍膜工藝、磁控濺射鍍膜機專利資料匯編

1、微機控制離子自組裝薄膜鍍膜機系統設計

　　研制了微機控制的全自動離子自組裝薄膜鍍膜機，采用32位數據采集卡PCL733與PCL734來實現與微機的通信，采用Visual Basic語言開發計算機驅動程序來實現對設備中電機和電磁閥的有效控制，設計了應用程序的操作界面，可實現離子自組裝全自動鍍膜的過程。該設備可解決手工操作帶來的問題，例如提高了成膜的效率；全封閉的鍍膜機能降低空氣中灰塵的影響，并減少人為因素的影響，提高鍍膜的質量；友好的操作界面可提供鍍膜方案的存儲，方便批量生產相同特性的鍍件，提高重復性。鍍制工件可以是平片狀工件，也可是纖維狀工件。可采用一種、兩種或多種...........共95頁

2、三靶磁濺式真空鍍膜機電氣控制系統研究

　　真空鍍膜機是一種直流磁控反應濺射鍍膜機，主要應用于太陽能真空管的制造過程。根據廠家工藝要求和技術參數，以PLC、觸摸屏作為硬件開發平臺，設計三靶磁濺式真空鍍膜機的電氣控制系統。工件旋轉和靶旋轉均采用模塊化的直流電機驅動電路，通過PLC軟件程序實現電樞降壓軟起動。采用分子泵替代油擴散泵，解決了鍍膜生產中油擴散泵出現的返油現象，提高鍍膜質量，降低了控制系統的功耗，節約電能90％以上。分子泵VVVF自適應控制的速度閉環控制建立于真空室真空度的基礎上，從而有效解決了真空度穩定和陡降之間的矛盾。首次獲得了與技術工藝參數 ...........共68頁

3、真空鍍膜機摻氣源溫度控制模塊研究

　　以計算機全自動控制超大容積汽車燈具鍍膜成套設備與鍍膜工藝研究為工程背景,通過對鍍膜機的控制任務和技術要求分析,應用計算機控制技術、電力電子技術、通信技術、計算機仿真技術和可靠性理論,對其子系統摻氣源溫度控制模塊的設計作了論述.模塊實時智能化控制雙路摻氣源溫度在設定恒溫,鍍膜機工作時摻氣源與真空室體間形成的壓力將氣體壓入真空室體,室體中的氣分子作為電介質協助完成鍍膜工藝.該文詳細論述了勢如破竹氣源溫度控制 ...........共85頁

4、真空鍍膜機卷繞系統空間軸系平行度研究

　　內容如下：{dy}章簡要介紹鍍膜機以與它的發展現狀；第二章討論了一些影響鍍膜機鍍膜質量的一些關鍵因素和技術；第三章具體計算了卷繞系統中各輥軸的撓度和它們之間的平行度，并以此為根據優化了放膜展平輥的設計。第四章用有限元法對卷繞系統中的各輥軸進行分析。第五章利用光電測量原理提出了對平行度誤差進行光電檢測的可行性研究，并建立了控制軟件系統的框架。研究的特點主要有以下幾個方面：1)根據平行度誤差計算結果，對放膜展平輥重新進行了不同于傳統方法的設計，運用后實際效果明顯。2)在對輥軸進行有限元分析的時候，建膜和分析分別在不同軟件中 ...........共70頁

5、多功能鍍膜機研制與低維納米功能材料制備

　　設計制造了多功能磁控濺射鍍膜機。鍍膜機集直流磁控濺射沉積、射頻磁控濺射沉積、中頻孿生磁控濺射沉積、陰極磁過濾弧等離子體沉積、蒸發于一體。既可以沉積金屬、陶瓷、有機薄膜，還可以沉積超晶格、復合薄膜。Ⅱ.研究了反應射頻磁控濺射制備氮化銅納米薄膜的霍爾系數。在室溫條件下，氮化銅薄膜的霍爾系數和霍爾電阻率隨氮氣流量的增加而增大，而霍爾遷移率和載流子濃度則減小。對同一條件下制備得到的氮化銅納米薄膜而言，在溫度從100 K到300 K的變化區間，薄膜的霍爾系數和霍爾電阻率降低，載流子濃度增加而霍爾遷移率基本保持不變。 Ⅲ.采用水 ...........共54頁

6、高真空磁控濺射鍍膜機溫度控制系統研究 

　　高真空磁控濺射鍍膜機的溫度控制在鍍膜過程中起著十分重要的作用，溫度控制的好壞直接影響到成膜質量。本文研究了專家PID算法的原理和實現方法，并將其應用到溫度控制系統中；就常規PID算法和專家PID算法在溫度控制上的應用開展了仿真比較；設計和實現了基于專家PID算法的高真空磁控濺射鍍膜機溫度控制系統，該系統主要由專家PID智能溫控儀、晶閘管反并聯模塊、晶閘管控制電路、熱電偶等組成；討論了溫度控制系統及其各單元的結構、工作原理和特性；溫度控制試驗結果表明，自行設計的溫度控制系統的溫升曲線能 ...........共55頁

7、自動鍍膜機智能控制系統研究 

　　研究了一種自動鍍膜機系統的智能控制方法，主要應用了自適應模糊控制方法對該自動鍍膜機系統實施控制，控制的目的是使自動鍍膜機系統能夠等線速度運行。由于該系統是一個非線性系統，而且存在參數的緩慢時變以及一些不確定因素的影響，很難建立jq的數學模型，傳統的控制策略很難達到控制要求，針對這樣一個系統采用了智能控制的方法來實現jq控制。根據該自動鍍膜機系統的結構建立了系統的動態方程，給出了詳細的參數計算過程。針對該單輸入單輸出非線性不確定系統，利用模糊自適應邏輯系統具有的逼近性 ...........共65頁

8、40kW中頻脈沖濺射電源設計 |

　　利用移相軟開關技術設計實現了20kHz中頻脈沖磁控濺射電源。該電源采用移相控制方式，實現IGBT的零電壓軟開關，大大降低了電源的開關損耗，提高了電源的效率。同時，采用20kHz的開關頻率，使電源具有較好的滅弧能力。利用輸出過電流保護點設置的方法，使輸出保護電流可調，并實現1μs時間迅速反應的過電流保護，在電源自動排除故障后，無需電源重啟動，能迅速恢復正常工作。設計的多級保護功能使電源保護可靠、完善。在電源設計時，盡量考慮到EMC設計與電源的可靠性設計，增強電源的穩定性，提高電源 ...........共40頁

9、雙路可控電源驅動電路設計

　　介紹了國內外幾種電鍍電源，并闡述了國內外電鍍電源的發展狀況；其次對電鍍用電源的基本要求、分類、工作原理及其特點進行了較為全面的概述；詳細介紹了該雙路可控電源驅動電路的主要性能指標、功能描述。針對電鍍電源的控制系統，設計了由PIC16F877單片機為控制核心所組成的電源控制系統，實現了對電鍍電源的自動控制。此系統能夠實現控制信號的傳遞，產生正確的輸出，并能夠產生占空比、幅值、頻率獨立可調的雙路可控電源驅動電路。此驅動電路能夠提高鍍件表面質量，并且結構簡單，可靠性高。通過PIC的硬件系統設計、PIC的軟件系統設計，{zh1}說 ...........共56頁

10、以陰極電弧電漿法於高速鋼SKH9被覆TiCrN鍍膜機械與磨潤性能之探討

　　使用陰極電弧電漿法，在不同真空度下以鈦與鉻為靶材，高速鋼為基材，於高速鋼基材上被覆氮化鉻(CrN)、氮化鈦(TiN)與氮化鈦鉻(TiCrN)鍍膜，並使用自行研製機電控制式往復磨耗試驗機以 ball-on-block方式探討在不同製程參數被覆鍍膜對表面結構及機械性質之影響，並以SEM與 EDS觀察表面型態及分析鍍膜成份。結果發現，鍍膜表面粗糙度以編號 C4 (wt.%:Ti 60.48,Cr 16.59,N 22.93){zd1}，鍍膜硬度以編號 A4 (wt.%:Ti 33.14,Cr 30.96,N 35.90)時可得到{zj0}硬度，附著力方面以編號 A4 (wt.%:Ti 33.14,Cr 30.96,N 35.90)可得到{zj0}的附著力，摩擦係數以編號 A3 (wt.%:Ti 7.19,Cr 51.59,N 41.22)時為{zd1}，磨耗率以編號 A3 (wt.%:Ti 7.19,Cr 51.59,N 41.22)及 A4 (wt.%:Ti33 ...........共70頁

11、TPM在真空鍍膜生產中的應用

　　簡要介紹了 TPM 的理論及其發展歷程；在對公司鍍膜生產線上存 在的問題進行了分析、研究的基礎上，論證了 TPM 應用項目導入的必要性 和可行性；導入和實施 TPM 項目的目的是，通過各種組織活動來持續改進，不斷xc生產過程中的浪費，從而提升公司運營效率，降低成本。重點是總結 TPM 應用項目在公司鍍膜生產線中的實施， {dy}部分分析了作為TPM保障支柱的公司培訓體系的現狀，通過對培訓流 程和責任人的調整，有效控制了培訓的流程，提高了培

12、磁約束磁控濺射源的關鍵技術研究

　　基于磁鏡原理設計出了一種新型的磁控濺射源——磁約束磁控濺射源。磁鏡是在空間形成了一個兩端強中間弱的磁場,它將運動著的電子和離子約束在中間磁場較弱的區域。本裝置將磁鐵沿水平方向分置在靶材兩側,在靶材上方形成磁約束磁場,等離子體被約束在靶面的上方區域,在電場的作用下,實現離子對靶面的大范圍濺射。通過對已有磁約束磁控濺射裝置的實驗,等離子體的區域有所擴展,靶材利用率和濺射率得到了一定的提高,但是實驗過程中發現有拉弧現象。為了解決拉弧問題,并進一步提高靶材利用率和濺射率,本文在原有磁約束磁控濺射裝置的基礎上,設計出了一種新型結構的磁控濺射裝置,主

13、高精度卷繞真空鍍膜設備張力控制技術研究

　　張力控制是鍍膜、IC制造、印刷、纖維纏繞等工業設備中具有共性的基礎技術之一。隨著現代卷繞設備向高速、高精度方向發展，張力控制技術極其重要。由于大型機電張力設備結構復雜、影響因素眾多，在不同工況下系統參數存在著較強的耦合性、非線性、時變性和不確定性；在基礎理論、檢測技術和控制策略等方面都還有許多問題尚需解決，因此，機電系統張力控制問題是擺在工程技術人員面前急需解決的重大研究課題之一。 真空鍍膜設備主要用于在PET、OPP、BOPP等塑料薄膜上連續蒸鍍單面金屬膜，該金屬膜可用于生產電容金屬化膜和包裝膜，在電子、包

14、離子束輔助沉積IAD真空鍍膜技術研究

　　在紅外光學系統中，絕大多數紅外光學元件必須鍍制減反射膜來降低表面反射損失，高性能的紅外減反射膜是紅外光學系統的一個關鍵部分。同時，由于使用環境惡劣，紅外光學元件通常除了必須具有較高的光學性能外，還必須具有較好的耐環境能力。 在紅外光譜區中經常使用高折射率基片，比如鍺（n=4.0）等，由于光線在這些材料表面上的反射損耗特別嚴重，如果不鍍減反射膜，紅外光學元件是不能使用的（比如鍺片如果不鍍膜，其在8～12μm內只有46％的透過率）。紅外鍺晶體光學零件在8～12μm減反射膜的膜層強度差是當前國內外薄膜光學亟待解決的一個難題，這是由于在　　 

15、雙H橋中頻磁控濺射電源研究

　　介紹主電路,主要介紹了主電路中的兩次逆變,其中逆變電路采用{zx1}的逆變思想(逆變電路串聯——雙H橋)和開關器件——雙絕緣柵型雙極晶體管IGBT。并詳細闡述了高頻變壓器的設計與制作方式。論述控制電路,由于提高逆變電源的頻率是減小逆變電源體積、xc噪聲的關鍵性問題,先介紹了制約逆變器電源高頻化的主要因素——電力開關器件的工作狀態,闡述了軟開關技術的起因和分類,詳細地介紹了軟開關技術的發展歷程和在各個階段的典型代表電路拓撲結構,指出了他們的優缺點。在分析了限制逆變電源高頻化因素的基礎上,綜合了

16、真空鍍膜機用磁性液體真空密封裝置設計及實驗研究

　　 對用于真空鍍膜機上的傳動控制軸密封裝置進行了設計，替代了原有的焊接金屬波紋管密封。（１）設計了極靴與{yj}磁鐵的結構，探討了相關零部件在設計、加工、裝配過程中遇到的問題，并給出了解決辦法。{zh1}還對密封裝置的設計方案進行了可行性分析。（２）根據磁性液體密封裝置的實際情況，從電磁場基本理論出發，用磁矢量位法表述了磁性液體密封裝置磁場一般的邊界條件。根據所推導的邊界條件，使用ＡＮＳＹＳ有限元fxrj，對本文設計的磁性液體密封裝置進行計算，得出了磁性液體密封裝置的磁場分布。（３）對所設計的磁性液體密封裝置進行了真空密封

17、真空鍍膜設備卷繞系統張力控制技術研究 

　　卷繞張力控制技術是真空鍍膜機中的關鍵技術，卷繞張力控制的精度、穩定性直接影響真空鍍膜機對原料膜的適應能力和產品的質量。此次設計的目標是通過對鋅鋁復合超薄電容膜設備的研制，對高速、低張力等極端情況下張力控制的分析研究，找到一套適合的張力控制模式，設計出一套用于gd電容金屬化膜生產的卷繞張力控制系統。本次真空鍍膜機卷繞系統控制方案：放卷和收卷均采用全自動閉環式直接張力控制方式及主輥速度控制模式，在控制中采用ＰＩＤ調節。卷繞系統張力控制實現的方式：采用ＰＬＣ加開放式現場總線ＣＣ．ＬＩＮＫ的方式

18、塑料瓶內壁非晶碳鍍膜機
19、蒸發磁控真空鍍膜機
20、制備泡沫導電膜卷繞式真空鍍膜機
21、水平式薄膜鍍膜機
22、分立雙室離子鍍膜機
23、用于真空鍍膜工藝光束共蒸發專用裝置
24、真空鍍膜軸向運動控制裝置
25、真空鍍膜機循環裝片裝置
26、鈦鋁涂層用多弧離子鍍膜機
27、用于有機電致發光鍍膜機坩鍋式蒸發源
28、具有自動識別功能有機發光鍍膜機基片小擋板
29、鋅鋁真空蒸發鍍膜機
30、平面離子源增強沉積鍍膜機
31、用于有機電致發光鍍膜機坩鍋式蒸發源
32、具有自動識別功能有機發光鍍膜機基片小擋板
33、自動鍍膜多弧離子鍍膜機
34、鋅鋁真空蒸發鍍膜機
35、雙室真空鍍膜裝置
36、多功能卷繞鍍膜機
37、一種用于熱蒸發型真空鍍膜設備熱蒸發源
38、納米離子低溫鍍制金剛石膜鍍膜機
39、有定向與自控制功能真空鍍膜機
40、一種卷繞式鋁-鋅鋁真空鍍膜機
41、隧道式超真空鍍膜機
42、真空鍍膜機中修正擋板自動切換裝置
43、一種配置氣體離子源真空離子鍍膜機
44、濺射式鍍膜機用靶材結構
45、有定向與自控制功能真空鍍膜機
46、一種卷繞式鋁-鋅鋁真空鍍膜機
47、一種適應不同樣品鍍膜機工件架
48、加有射頻等離子體聚合蒸發鍍膜機
49、立式雙室雙面鍍磁控濺射卷繞鍍膜機
50、真空離子鍍膜機
51、隧道式超真空鍍膜機
52、一種真空鍍膜機用加熱罐
53、真空鍍膜機抽氣系統
54、雙室真空鍍膜機
55、真空鍍膜機用多路閥
56、真空鍍膜機加熱裝置
57、{gx}式真空鍍膜旋轉支架
58、內壁鍍膜介電管真空鍍膜設備
59、鍍膜機真空反應室
60、高真空蒸發雙面金屬化鍍膜機
61、用真空鍍膜機制作鍍膜裝飾玻璃方法
62、帶有可轉動磁控管大面積組件鍍膜機
63、在陶瓷釉面磚上制備納米薄膜方法與納米薄膜鍍膜機
64、臥式電子束蒸發式真空鍍膜機
65、內藏靜電除塵機構連續式真空鍍膜機
66、一種新型真空鍍膜機
67、真空鍍膜機用成型鍍膜靶材
68、玻璃鍍膜機
69、一種用于真空鍍膜領域傳動裝置
70、七彩變色玻璃真空鍍膜機
71、一種具有在線清洗功能陽極裝置與設有該裝置鍍膜機
72、轉動工件實時測溫裝置與使用該裝置真空鍍膜系統
73、納米薄膜鍍膜機
74、一種真空鍍膜系統
75、一種積木式多用途真空鍍膜機
76、一種真空鍍膜水鉆
77、一種真空鍍膜系統
78、磁控濺射卷繞鍍膜機
79、加快鍍膜機真空室達到高空度方法
80、鍍膜用轉盤與鍍膜機
81、一種液體鍍膜工藝與離心鍍膜機
82、高速卷繞多層電容薄膜鍍膜機與其工藝流程
83、鍍膜用基片夾具鍍膜用轉盤與鍍膜機
84、磁控濺射鍍膜機永磁槍靶裝置
85、一種三靶磁控濺射鍍膜機
86、一種設有防漏裝置真空鍍膜機
87、真空鍍膜機防漏裝置
88、一種卷繞鍍膜機
89、一種連續真空鍍膜裝置
90、高真空卷式鍍膜機構
91、金屬板帶真空鍍膜設備
92、磁控濺射卷繞鍍膜機
93、磁控濺射鍍膜機永磁槍靶裝置
94、一種真空立式鍍膜機工件轉架
95、真空鍍膜機多級行星式工件架
96、液體鍍膜工藝用離心鍍膜機
97、高速卷繞多層電容薄膜鍍膜機
98、真空桶式鍍膜機
99、電熱膜鍍膜機
100、一種用于光學輔助鍍膜機中離子源陽極
101、超大型等離子真空鍍膜裝置
102、改進等離子真空鍍膜裝置
103、一種玻璃真空鍍膜工件架
104、金屬內管雙通式真空鍍膜集熱管
105、真空內鍍膜機與其使用方法
106、一種用于顆粒表面改性等離子鍍膜裝置
107、一種真空多弧離子鍍膜機智能一體化控制器
108、一種鍍膜機轉動支架
109、一種新型鍍膜機
110、真空鍍膜箱
111、真空鍍膜用“U”形真空室
112、真空鍍膜用自降溫傳動軸
113、真空鍍膜機鍍件放置網框
114、鍍膜裝置
115、管道內表面清洗和鍍膜技術與裝置
116、傾斜沉積鍍膜裝置
117、一種高溫加熱真空蒸發鍍膜裝置
118、多工位軸瓦磁控濺射鍍膜裝置
119、實現超高真空半導體外延片解理和腔面多層鍍膜系統
120、一種濺射鍍膜裝置和方法
121、管狀工件內面鍍膜方法
122、復合式鍍膜裝置與方法
123、散熱模塊表面鍍膜方法與鍍膜散熱模塊
124、一種真空鍍膜成圖方法專用設備與制品
125、形成金屬玻璃鍍膜靶材與該靶材形成復合材料
126、一種鋁加厚金屬化電容器用薄膜真空蒸發鍍膜機
127、傳動機構表面鍍膜方法
128、表面氮化鉻鍍膜方法
129、真空磁控鍍膜室中遮擋裝置
130、鍍膜用旋轉濺射陰極裝置
131、一種連續卷繞式磁控濺射真空鍍膜裝置
132、鍍膜支架
133、鍍膜裝置
134、光學鍍膜裝置
135、鍍膜裝置
136、鍍膜設備
137、遮光元件與其鍍膜方法
138、鍍膜裝置
139、鍍膜治具鍍膜裝置與鍍膜方法
140、鍍膜裝置
141、鍍膜工件承載裝置與鍍膜方法
142、光學鍍膜裝置
143、一種鍍膜機轉架
144、一種光學鍍膜機
145、鍍膜機快卸式噴銀口擋板結構
146、鍍膜機六鍍頭式電極結構
147、鍍膜機防屑型抽真空口結構
148、鍍膜機噴銀口擋板關閉時間jq控制電路
149、傾斜沉積鍍膜裝置
150、一種固定式屏蔽濺鍍鍍膜機
151、一種鋁加厚金屬化電容器用薄膜真空蒸發鍍膜機
152、可調沉積速率真空鍍膜機擋板
153、在帶狀纖維織物上磁控濺射納米銀卷繞鍍膜機
154、一種真空離子鍍膜機
155、真空離子鍍膜機掛桿懸掛裝置
156、真空離子鍍膜機
157、真空離子鍍膜機自轉機構
158、具有真空蒸鍍膜生物降解性樹脂容器和真空蒸鍍膜形成方法
159、網處理方法處理槽連續電解電鍍裝置與帶有電鍍膜塑料膜制造方法
160、用于在金屬帶上沉積合金鍍膜工業蒸汽發生器
161、鍍膜設備框架式真空室
162、鍍膜玻璃除膜機
163、一種鋼領真空離子鍍膜制備方法
164、真空離子濺射鍍膜在IML工藝中應用方法
165、一種真空離子鍍膜方法
166、一種模塊化太陽能選擇性涂層連續鍍膜設備
167、鍍膜板與鍍膜板制備方法
168、一種導電玻璃在線鍍膜方法與在線鍍膜裝置
169、一種導電玻璃在線鍍膜方法與在線鍍膜裝置
170、一種平板顯示材料多功能鍍膜生產線
171、真空鍍膜裝置與鍍膜方法
172、脈沖加熱多匣式化學氣相沉積p-i-n鍍膜裝置
173、鍍膜附著力測量方法與測量裝置
174、高透可鋼化低輻射鍍膜玻璃與其制造方法
175、太陽能選擇性吸收膜連續卷繞鍍膜裝置
176、金屬薄板帶連續進行表面真空鍍膜裝置
177、遮罩組件以與鍍膜機臺
178、多功能磁控濺射鍍膜裝置
179、卷繞鍍膜前處理工藝與裝置
180、真空鍍膜用處理裝置
181、彩色圖案鍍膜工藝
182、一種用于半導體激光器腔面鍍膜裝置和方法
183、一種連續式真空鍍膜方法與其專用設備
184、用真空鍍膜機制作金色紫色鏡子方法
185、用于真空鍍膜水平方向公自轉機構
186、一體化超聲噴霧熱解大面積寬溫區鍍膜裝置
187、彎鋼化玻璃外弧面鍍膜方法與其制備低輻射鍍膜玻璃
188、鍍膜玻璃與其制造方法
189、釩基多元鍍膜液和復合薄膜與其制備方法和應用
190、鍍膜原料收容裝置
191、鍍膜裝置
192、深孔內壁電弧離子鍍膜方法
193、車燈鍍膜組合工藝
194、制備鉻鍍液方法和形成鍍膜方法
195、大型復雜曲面制件磁控濺射鍍膜機
196、三靶多支太陽能集熱管鍍膜機
197、一種帶有補償斜靶真空磁控濺射鍍膜機
198、多功能磁控濺射連續鍍膜機
199、新型鍍膜機工轉結構
200、一種光學鍍膜機超凈臺
201、一種真空內鍍膜機
202、高速高真空在線分切同步多收卷卷繞鍍膜機
203、雙冷卻鍍膜輥懸浮真空連續卷繞鍍膜機
204、一種真空鍍膜機滾筒靜電裝置
205、一種真空鍍膜機蒸發器
206、一種柔性基材卷繞鍍膜機冷鼓系統
207、帶材鍍膜機
208、{gx}太陽能集熱管鍍膜機
209、鍍膜機電磁加熱器
210、太陽能電池鍍膜機石墨板掛鉤
211、三室兩鎖太陽能集熱管鍍膜機
212、新型多用途鍍膜機轉架
213、一種塑料裝飾品真空鍍膜機
214、一種光纖端面鍍膜方法
215、太陽能集熱板條陽極鍍膜生產工藝
216、一種提高低輻射鍍膜玻璃生產效率方法
217、自動太陽能玻璃鍍膜設備
218、超聲波樣品臺以與用其進行粉體磁控濺射鍍膜方法
219、二氧化釩薄膜鍍膜液和薄膜制備方法與應用
220、一種鍍膜玻璃生產方法和生產設備
221、滾筒式樣品臺以與用其進行粉體顆粒磁控濺射鍍膜方法
222、蒸發鍍膜設備
223、一種樹脂鏡片有機玻璃鏡片表面超硬涂層鍍膜方法
224、一種提高錫基低輻射鍍膜玻璃生產效率方法
225、鍍膜蓋板與采用該鍍膜蓋板手機
226、光學鍍膜測量系統反射式光路裝置
227、卷繞式真空鍍膜設備
228、適用于槽式太陽能熱發電集熱管內管與其鍍膜方法
229、電場約束等離子體線性反應濺射鍍膜陰極裝置
230、快換式硅片鍍膜對稱掛鉤組件與其安裝方法
231、磁控濺射鍍膜陰極裝置
232、用于半導體太陽能鍍膜工藝腔室
233、鍍膜玻璃薄膜缺陷在線檢測方法與裝置
234、電容觸摸屏鍍膜生產工藝
235、真空鍍膜機擴散泵循環冷卻水系統

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