本設備加熱部分選用進口爐絲以及耐高溫保溫材料,爐體使用壽命長,保溫性能好。送片系統采用絲杠、導軌副及SiC槳懸臂式推拉舟結構,可確保進出舟運行平穩,同時能有效地防止因磨擦而產生的粉塵污染。溫控部分選用帶有自整定PID調節系統、0.1級精度以及具有多項保護功能的進口gd溫控儀,因而控溫精度高,溫度穩定性好,升、降溫響應速度快,同時可與計算機通訊實現升降溫速率自動控制。氣路部分的關鍵件均采用進口件,并具有完善的安全保護措施,可靠性好。整機由計算機控制,各部分軟、硬件聯鎖;操作部分采用先進的觸摸屏技術,工藝參數的設置及運行均可在觸摸屏上直接進行;自動化程度高、操作簡便、可靠性好。 1.2主要用途及適用范圍 本設備主要用于8英寸硅片以下太陽能器件制造中的擴散、氧化工藝;也可用于半導體器件制造中的擴散、氧化、退火及合金工藝,同時還適用于對其他材料的特殊溫度處理。