東莞市鼎偉靶材有限公司是專業生產純金屬材料,蒸鍍膜材料以及濺射靶材的技術企業應用的科技型民營股份制工貿有限公司。公司以青島大學和青島科技大學蒸材料專業為技術依托,擁有多名中級專業技術人員和專業化應用實驗室,有很強的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、濺射靶材系列產品廣泛應用到國內外眾多知名子、太陽能企業當中,以較的價比,成功替代了國外進口產品,頗受用戶好評。
鍍膜鉬靶Mo廠家直銷
東莞市鼎偉靶材有限公司
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地址:東莞市南城區民間金融大廈
公司主要經營產品:
一、真空鍍膜材料
1.純真空濺射靶材(99.9%——99.999%)
純金屬靶材:鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……
多元合金靶材: 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……
陶瓷濺射靶材:ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs,磷化鎵靶GaP,硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶,鈮酸鋰靶、等…
稀土金屬靶:鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…
稀土氧化物靶:氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶
金屬膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材:
金屬膜阻器用靶材括阻系列(ZYG)、中阻系列(ZYZ)和低阻系列(ZYC)、超低阻系列(ZYCD)。
2.純光學鍍膜材料(99.99%——99.999%)
氧化物:一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…
氟化物:氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化T18919837845(不是聯系方式)釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…
硫化物:硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…
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靶材的分類方法很多。根據材料的種類,靶材括金屬及合金靶材、無機非金屬靶材和復合靶材等。無機非金屬靶材又分為氧化物、硅化物、氮化物和氟化物等不同種類。根據不同的幾何形狀,靶材分為長(正)方體形靶材、圓柱體形靶材和不規則形狀靶材。此外,靶材還可分為實心和空心!種類型。常規的長(正)方體形和圓柱體形磁控濺射靶為實心的,是以圓環形永磁體在靶材表面建立環形磁場,在軸間等距離的環形表面形成刻蝕區,因而影響沉積薄膜厚度的均勻,而且靶材的利用率僅為!"30%
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氧化鋯陶瓷
濺射靶材
黃金靶材
工業陶瓷
靶材廠家
靶材
氧化鋯陶瓷棒
機械陶瓷配件
子槍燈絲
【原創內容】
清潔。第四步在qc完有污垢的區域后,再用壓低水氣的氬氣沖洗靶材,以除去所有可能在濺射系統中會造成起弧的雜質粒三、靶材安裝靶材安裝過程中最重要的意事項是一定路進行判斷。在確定陰極不存在短路后,可以進行檢漏檢查,將水通入陰極確定是否存在漏水現象。五、靶材預濺射靶材預濺射建議采用純氬氣進行濺射,可以起到清潔靶材表面的作
大部分背靶可以重復使用,尤其是采用金屬銦進行帖合的比較容易進行清潔和重使用。如果是采用其他帖合劑(括環氧樹脂)則可能需要采用機械處理的方式對背靶表面處理后才
直接影響真空度獲得和加成膜失敗的可能。短路或靶材起弧,成膜表面粗糙及化學雜質含量超標經常是由于不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。為保持鍍膜的成分特,濺射導致在濺射過程中熱量無法散最終會造成靶材裂或脫靶為確保足夠的導熱,可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請意一定要仔細檢查和明確所使用濺射槍冷卻壁的物覆蓋面積加。在一定功率的況下,參與化合物生成的反應氣體量加,化合物生成率加。如果反應氣體量加過度,化合物覆蓋面積加,如果不能及時調整反應氣體流量,其是采用金屬銦進行帖合的比較容易進行清潔和重使用。如果是采用其他帖合劑(括環氧樹脂)則可能需要采用機械處理的方式對背靶表面處理后才能重復使用。當我們收到用戶能重復使用。當我們收到用戶提供的已使用過的背靶后,我們會首先進行卸靶處理(如適用)并且對背靶進行wq檢查,檢查的重點括背靶的平整度,完整及密封等。我們會通知