東莞市鼎偉靶材有限公司是專業生產純屬材料，蒸鍍膜材料以及濺射靶材的技術企業應用的科技型民營股份制工貿有限公司。公司以青島大學和青島科技大學蒸材料專業為技術依托，擁有多名中級專業技術人員和專業化應用實驗室，有很強的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、濺射靶材系列產品廣泛應用到國內外眾多知名子、太陽能企業當中，以較的價比，成功替代了國外進口產品，頗受用戶好評。

鈀靶材

公司主要經營產品： 

一、真空鍍膜材料 

1．純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）

純屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……

多元合靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……

陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等… 

稀土屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等… 

稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶 

屬膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：

屬膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

2．純光學鍍膜材料（99.99％——99.999％）

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等… 

氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等… 

硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…

銥錸合靶材

Ir-Re

99.9%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

銦錫合靶材

In-Sn

99.99%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

鉬硅合靶材

Mo-Si

99.5%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

鉬鈮合靶材T18937853784(不是聯系方式)

Mo-Nb

99.95%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

鎳鋁合靶材

Ni-Al

99.9%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

鎳鉻合靶材

Ni-Cr

99.95%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

鎳鉻硅合靶材

Ni-Cr-Si

99.95%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

鎳鐵合靶材

Ni-Fe

99.9%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

鎳鈮鈦合靶材

Ni-Nb-Ti

99.9%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

鎳鈦合靶材

Ni-Ti

99.95%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

鎳釩合靶材

Ni-V

99.9%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

釤鈷合靶材

Sm-Co

99.9%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

銀銅合靶材

Ag-Cu

99.99%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

銀錫合靶材

Ag-Sn

99.99%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

鉭鋁合靶材

Ta-Al

99.9%

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

鋱鏑鐵合靶材

Tb-Dy-Fe

圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺階靶，圖紙加工

靶材是子工業實現各種功能鍍膜的材料，因此靶材行業的展主要還是依賴于下游應用產業的進步。而近年來材料、子的展，各種光薄膜、磁薄膜以及子薄膜在這些技術領域廣泛應用。技術產業的展，也讓靶材的生產逐漸趨于專業化?？梢哉f，靶材行業是子產業的關鍵撐。

據《中國靶材行業報告》的統計，我國靶材產業的市場規模逐年擴大，僅濺射靶材在半導體集成路領域的應用規模目前就已經達到十多億元。作為制備和生產功能薄膜的方法之一，濺射法廣泛應用于許多領域。它是目前制備屬薄膜最常用的工藝。作為技術用的靶材是一種全的概念。隨著技術用材料突飛猛進的展，靶材的市場銷售規模日益擴大

【原創內容】
用。靶材進行預濺射時建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W時/平方厘米。屬類靶材的預濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個合理的功率加大速率為平整度，同時確保O型密封圈始終在位置。四、短路及密封檢查靶材完成安裝后需要對整個極進行短路檢查及密封檢查，建議通過使用阻儀搖表的方式對極是否存在短是無氧銅，因為無氧銅有良好的導和導熱，而且比較容易機械加工。如果保養適當，無氧銅背靶可以重復使用10次甚至更多。鉬(Mo)–在某些使用條件比較特殊的況下，如清潔。第四步在qc完有污垢的區域后，再用壓低水氣的氬氣沖洗靶材，以除去所有可能在濺射系統中會造成起弧的雜質粒三、靶材安裝靶材安裝過程中最重要的意事項是一定我們現有需要維修的地方會書面通知戶并提供維修報價三、裝和運輸所有已貼合靶材裝在真空密封塑料袋中，并附有防潮劑。外裝一般為木箱，四周有防撞層，以保護靶材清潔。第四步在qc完有污垢的區域后，再用壓低水氣的氬氣沖洗靶材，以除去所有可能在濺射系統中會造成起弧的雜質粒三、靶材安裝靶材安裝過程中最重要的意事項是一定需要進行溫帖合的條件下，無氧化銅容易被氧化和生翹曲,所以會使用屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些屬靶材的熱膨脹系數無法與無氧銅匹配，同樣也需要使用是無氧銅，因為無氧銅有良好的導和導熱，而且比較容易機械加工。如果保養適當，無氧銅背靶可以重復使用10次甚至更多。鉬(Mo)–在某些使用條件比較特殊的況下，如