PVD真空電鍍處理流程_國內哪家真空電鍍廠家技術好

入PVD真空電鍍廠→檢驗→清洗→擦拭→上掛具→烘烤→（150°C×30分鐘+）→進爐PVD真空電鍍（抽真空、升溫→離子轟擊清洗→真空鍍膜）→降溫至100°C以下→出爐→下掛→品檢→裝袋→回廠

東莞千屹電鍍有限公司專注不銹鋼環保PVD真空電鍍行業的加工，目前擁有國際高新真空環保電鍍技術。成為行業環保電鍍先進技術領航企業。

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國內PVD電鍍水平哪家好—不銹鋼PVD鍍鉻技術原理

本技術主要采用電弧-濺射技術，利用陰陽極之間的放電離化氬氣，使氬離子在作為陰極的靶材電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶原子，PVD電鍍中性的靶原子或離子沉積在基片上，形成固體薄膜。本項目在上述原理的基礎上進行改進和新技術開發，采用改進的電弧-濺射技術提高靶功率密度，采用等離子體源增強技術提高鍍膜室的等離子體密度，從而開發出環保、{gx}的快速PVD電鍍鍍鉻新技術。

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不銹鋼真空鍍膜廠家_鈦鋼鋼PVD真空鍍膜哪家好

對于磁控濺射鍍膜氣體壓強方面：

(1) 不銹鋼真空鍍膜直流和中頻脈沖磁控濺射的工作氣體壓強一般在 0.3~0.8Pa 之間(典型值為5×10-1 Pa);

(2) 射頻磁控濺射鍍膜可以在10-1~10-2 Pa工作氣體壓強下正常進行。

(3) 不銹鋼真空鍍膜真空腔室巨細、氣體流量、真空抽速和閘板閥開合角度等多種要素都或許影響到工作氣體壓強。工作氣體壓強的最終查看值，實際上應看作是氣體流量-真空抽速與閘板閥開合角度等參數的動態平衡的成果。

(4) 有些陰極靶材的磁控濺射鍍膜技能(如對膜層的純度和表面粗造度懇求不高)還可以在1pa ~ 10Pa，甚至更高的工作氣體壓強下進行堆積鍍膜。

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