金屬靶材

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

       濺射靶材使用指南及注意事項

       短路及密封性檢查  

       靶材完成安裝后需要對整個陰極進行短路檢查及密封性檢查， 建議通過使用電阻儀搖表的方式對陰極是否存在短路進 行判斷。在確定陰極不存在短路后，可以進行檢漏檢查，將水通入陰極確定是否存在漏水現象。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  高品質、高純靶材歡迎來電咨詢~~~

金屬靶材

北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

濺射靶材使用指南及注意事項

靶材預濺射  

靶材預濺射建議采用純氬氣進行濺射，可以起到清潔靶材表面的作用。靶材進行預濺射時建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W小時/平方厘米。金屬類靶材的預濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個合理的功率加大速率為1.5W小時/平方厘米。  

在進行預濺射的同時需要檢查靶材起弧狀況，預濺射時間一般為10分鐘左右。如沒有起弧現象，繼續提升濺射功率到設定功率。根據經驗，金屬靶材可承受的濺射功率為25watts/平方厘米，陶瓷靶材為10watts/平方厘米。請同時參用戶系統操作手冊中關于濺射時真空腔體壓力的設定根據經驗，一般應確保冷卻水出水口的水溫應低于35攝氏度，但最重要的是確保冷卻水的循環系統能有效工作，通過冷卻水的快速循環帶走熱量，是確保能以較高功率連續濺射的一項重要保障。對于金屬靶材一般建議冷卻水流量為20LPM水壓在5GMP左右；對于陶瓷靶材一般建議水流量在30LPM水壓在9GMP左右。

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金屬靶材的前景

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

       鎢-鈦靶材作為光伏電池鍍膜材料是最近發展起來的，它作為第三太陽能電池的阻擋層是好的選擇。

　　由于 W-Ti 系列薄膜具有非常優良的性能，近幾年來應用量急劇增加，2008年W-Ti 靶材世界用量已達到400t，隨著光伏產業的發展，這種靶材的需求量會越來越大。具行業預測其用量還會有很大的增加。國際太陽能電池市場以{bfb}的速度增長，目前世界有30 多公司參與太陽能市場的進一步開發， 并已有的公司產品投入市場。我國研發的超大尺寸、高密度、高純W-Ti 靶材，是屬于新型的離子濺射鍍膜靶材料。可廣泛應用于顯示屏的阻擋層或調色層，筆記本電腦的裝飾層、電池的封裝、太陽能（光伏）電池的阻擋層，具有很好市場前景和經濟效益。另一方面又可帶動我國鎢產業的產品升級換，獲得更高的附加值。

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