滾鍍和脈沖鍍生產工藝對比 ①滾鍍時通過調整轉速來控制零件與滾桶壁之間的相對錯動速度,來改變弧線部分的導通時間、頻率,通過孔眼直徑、孔眼中心距來控制占空比。對于確定的滾桶來說,孔眼直徑和孔眼中心距已固定不變,所以占空比不會改變,也不能調整。
②滾鍍和脈沖鍍在深鍍能力上不理想,電流效率較低。例如,某些深孔、盲孔鍍件的內壁不易鍍好,但分散能力好,能形成較均勻的鍍層。
③滾鍍和脈沖鍍雖然峰值電流較高,但導通時間短,一般情況下不會出現鍍層燒焦,除非設定的平均電流太高或導通時間太長(如滾鍍時出現“粘壁”的情況)。滾鍍時關斷時間較短,對鍍鎳這類易鈍化的鍍種來說不致于引起鈍化,依然可以進行滾鍍生產,這同脈沖鍍鎳時不會出現鎳層鈍化的原理相同。
④脈沖電源在運行時,在電鍍槽中產生交流低頻振蕩,會引起部分有機添加劑分解,造成鍍液污染 。因此,脈沖鍍一般不使用添加劑。滾鍍時添加劑消耗也比掛鍍的快,容易積累分解產物。

一般來講,滾鍍工件高低電流密度區的差別比較明顯,如五金制品中的鈕扣類產品,這些產品滾鍍光亮鎳時一般只要求裝飾性,檢驗鍍層外觀時要看鍍件的低電流密度區是否光亮。因此,防變色鍍銀電鍍時選擇光亮劑比較嚴格,光亮劑對鍍液均鍍能力和出光速度的影響特別重要。
滾鍍光亮鍍鎳溶液要求均鍍能力好,低電流密度區鍍層出光速度快。配制滾鍍鎳主光亮劑時要多用低電位增光劑,例如丙炔磺酸鈉,而使用高電位增光劑的作用則不大。配制輔助光亮劑時應多使用低電位走位劑,例如烯丙基磺酸鈉,以便提高鍍液的均鍍能力。



掛鍍又稱吊鍍,掛鍍是通過掛具把產品掛好.在鍍缸里旋轉或移動從中的得到鍍。掛鍍(rack plating)比較簡單,鍍件直接掛(勾)在一件爪型的掛具上,再放在鍍液中電鍍,*電流直接通到鍍件中*。通常用于高價或大件鍍件,質量同場好于滾鍍。
滾鍍(barrel plating),大量的鍍件放在一個布滿小孔的六角型滾桶中,內有一條導電線與鍍件作不固定接觸,滾桶在鍍液中慢慢滾動,電流和鍍液經過小孔出入滾桶,*電流間接通到每件鍍件中*,滾動令每件鍍件鍍層均勻。通常用于低價或小鍍件。
兩種方法的對象、成本、時間、電鍍品質、操作方式、電流電壓、鍍液.太多不同!
而且滾鍍的限制較多,如:不可鍍鉻、酸銅效果較差、鍍件易碰花或變型、做多層電鍍好麻煩。

