廣州市尤特新材料有限公司是一家扎根于電子信息材料行業的高新技術企業，以生產信息存儲記錄材料為起點，順延產業技術發展的方向，深耕產業技術應用的潛力，經過11年的開拓已發展成為擁有電子漿料（貴金屬鍍膜技術）、金屬薄膜靶材（真空鍍膜靶材技術）信息存儲記錄材料（激光讀寫光盤生產技術）、工程塑料（PC再生造粒及改性技術）、觸控顯示材料（手機、平板觸摸屏材料）、石墨烯材料（導電、散熱）、UV化工材料（UV油墨、UV電子膠粘劑）這七大核心技術為中心的產業集團。

      目前，我國具備高純鋁生產能力的企業共7家，分別是新疆眾和、bao頭鋁業、霍煤鴻駿、山西關鋁、宜都東陽光鋁、中鋁貴州和神火鋁業。其中，bao頭鋁業和新建眾和都具有偏析法生產能力，其余幾家均采用三層電解法。相信隨著國內生產工藝的發展，產品質量的提高，高純鋁將是鋁工業發展的新方向。從高純鋁靶材的上游供應情況來看，我國高純鋁產量并不高，也不能滿足國家高純鋁靶材生產所需。其余所需只能來源于進口。 未來，我國將通過超高純鋁及鋁合金靶材制備加工過程中的關鍵技術攻關，全1面掌握應用于大規模集成電路制造和TFT-LCD制造的大尺寸超高純鋁及鋁合金靶材的制備加工技術;制備出滿足大規模集成電路制造用和TFT-LCD使用要求的超高純鋁及鋁合金靶材產品;為在我國形成一個從超高純鋁精煉提純到靶材加工的完整產業鏈提供關鍵技術支撐。隨著電子新材料行業的快速發展,以高純鋁為基礎的電子新材料產品(bao括靶材)需求將保持高速增長。國內鋁電解電容器需求將以年均13-15%的速度增長。隨著我國存儲盤及半導體制品國產化，高純鋁靶材的需求量將會進一步增加，市場前景廣闊。

      廣州市尤特新材料有限公司是一家扎根于電子信息材料行業的高新技術企業，以生產信息存儲記錄材料為起點，順延產業技術發展的方向，深耕產業技術應用的潛力，經過11年的開拓已發展成為擁有電子漿料（貴金屬鍍膜技術）、金屬薄膜靶材（真空鍍膜靶材技術）信息存儲記錄材料（激光讀寫光盤生產技術）、工程塑料（PC再生造粒及改性技術）、觸控顯示材料（手機、平板觸摸屏材料）、石墨烯材料（導電、散熱）、UV化工材料（UV油墨、UV電子膠粘劑）這七大核心技術為中心的產業集團。

靶材的主要性能要求

純度

   純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業的迅速發展，硅片尺寸由6”, 8“發展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。

雜質含量

   靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如，半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

   為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

   通常靶材為多晶結構，晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材，晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

     廣州市尤特新材料有限公司是一家扎根于電子信息材料行業的高新技術企業，以生產信息存儲記錄材料為起點，順延產業技術發展的方向，深耕產業技術應用的潛力，經過11年的開拓已發展成為擁有電子漿料（貴金屬鍍膜技術）、金屬薄膜靶材（真空鍍膜靶材技術）信息存儲記錄材料（激光讀寫光盤生產技術）、工程塑料（PC再生造粒及改性技術）、觸控顯示材料（手機、平板觸摸屏材料）、石墨烯材料（導電、散熱）、UV化工材料（UV油墨、UV電子膠粘劑）這七大核心技術為中心的產業集團。

      磁控濺射鍍膜是一種新型的物lq相鍍膜方式，2013年的蒸發鍍膜方式，其很多方面的優勢相當明顯。作為一項已經發展的較為成熟的技術，磁控濺射已經被應用于許多領域。

     濺射技術。濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。