廣州市尤特新材料有限公司是一家扎根于電子信息材料行業(yè)的高新技術(shù)企業(yè)，以生產(chǎn)信息存儲(chǔ)記錄材料為起點(diǎn)，順延產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的方向，深耕產(chǎn)業(yè)技術(shù)應(yīng)用的潛力，經(jīng)過(guò)11年的開(kāi)拓已發(fā)展成為擁有電子漿料（貴金屬鍍膜技術(shù)）、金屬薄膜靶材（真空鍍膜靶材技術(shù)）信息存儲(chǔ)記錄材料（激光讀寫(xiě)光盤(pán)生產(chǎn)技術(shù)）、工程塑料（PC再生造粒及改性技術(shù)）、觸控顯示材料（手機(jī)、平板觸摸屏材料）、石墨烯材料（導(dǎo)電、散熱）、UV化工材料（UV油墨、UV電子膠粘劑）這七大核心技術(shù)為中心的產(chǎn)業(yè)集團(tuán)。
近年來(lái)，由于智能手機(jī)、平板電腦等移動(dòng)終端的流行，市場(chǎng)對(duì)ITO靶材的需求量大增，而ITO靶材主要原材料是稀有金屬銦，該領(lǐng)域?qū)︺煹南M(fèi)量占到了全球銦產(chǎn)量的75%左右。目前，全球銦的保有量只有1.6萬(wàn)噸，中國(guó)的銦保有量約1萬(wàn)噸，全球占比達(dá)到62%。接下來(lái)是秘魯?shù)?80噸、加拿大的560噸、美國(guó)的450噸，分別占全球保有量的3.6%、3.5%、2.7%，比較可知，銦是中國(guó)在儲(chǔ)量上占據(jù)絕1對(duì)優(yōu)勢(shì)的資源。雖然國(guó)內(nèi)銦儲(chǔ)存量豐富，但I(xiàn)TO靶材技術(shù)一直無(wú)法取得突破，成為為日韓提供銦金屬原材料供應(yīng)國(guó)。為在ITO靶材方面取得技術(shù)突破。2012年科技部在北京組織召開(kāi)了“十一五”國(guó)家科技支撐計(jì)劃“銦、鋁深加工關(guān)鍵技術(shù)攻關(guān)與產(chǎn)品開(kāi)發(fā)”重點(diǎn)項(xiàng)目驗(yàn)收會(huì)上，燒結(jié)法制備ITO靶材新技術(shù)，生產(chǎn)出超高密度高性能ITO靶材，建設(shè)了一條年產(chǎn)10萬(wàn)噸的試驗(yàn)生產(chǎn)線，打破了國(guó)外技術(shù)壟斷。當(dāng)年，洛陽(yáng)725所高世TFT-LCD和PDP用ITO靶材技術(shù)研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目列入國(guó)家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展專項(xiàng)資金計(jì)劃，給予4000萬(wàn)元國(guó)家補(bǔ)助資金支持。725所在已具備wq自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高純高活性納米ITO粉末制備、濕法成型、氧壓燒結(jié)和物理1氣化回收等核心技術(shù)基礎(chǔ)上，實(shí)現(xiàn)gdITO靶材的國(guó)內(nèi)自主供應(yīng)，對(duì)于突破我國(guó)平板顯示產(chǎn)業(yè)技術(shù)瓶頸，改變銦低價(jià)出口再高價(jià)買(mǎi)回制品的被動(dòng)局面，打破國(guó)外壟斷具有重要意義。
廣州市尤特新材料有限公司是一家扎根于電子信息材料行業(yè)的高新技術(shù)企業(yè)，以生產(chǎn)信息存儲(chǔ)記錄材料為起點(diǎn)，順延產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的方向，深耕產(chǎn)業(yè)技術(shù)應(yīng)用的潛力，經(jīng)過(guò)11年的開(kāi)拓已發(fā)展成為擁有電子漿料（貴金屬鍍膜技術(shù)）、金屬薄膜靶材（真空鍍膜靶材技術(shù)）信息存儲(chǔ)記錄材料（激光讀寫(xiě)光盤(pán)生產(chǎn)技術(shù)）、工程塑料（PC再生造粒及改性技術(shù)）、觸控顯示材料（手機(jī)、平板觸摸屏材料）、石墨烯材料（導(dǎo)電、散熱）、UV化工材料（UV油墨、UV電子膠粘劑）這七大核心技術(shù)為中心的產(chǎn)業(yè)集團(tuán)。
一、背靶材料
無(wú)氧銅(OFC)– 目前最常使用的作背靶的材料是無(wú)氧銅，因?yàn)闊o(wú)氧銅具有良好的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性，而且比較容易機(jī)械加工。 如果保養(yǎng)適當(dāng)，無(wú)氧銅背靶可以重復(fù)使用10次甚至更多。
鉬(Mo)– 在某些使用條件比較特殊的情況下，如需要進(jìn)行高溫帖合的條件下，無(wú)氧化銅容易被氧化和發(fā)生翹曲, 所以會(huì)使用金屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數(shù)無(wú)法與無(wú)氧銅匹配，同樣也需要使用金屬鉬作為背靶材料。
不銹鋼管(SST)– 目前最常使用不銹鋼管作為旋轉(zhuǎn)靶材的背管，因?yàn)椴讳P鋼管具有良好的強(qiáng)度和導(dǎo)熱性而且非常經(jīng)濟(jì)
二、背靶重復(fù)使用
大部分背靶可以重復(fù)使用，尤其是采用金屬銦進(jìn)行帖合的比較容易進(jìn)行清潔和重新使用。如果是采用其他帖合劑（bao括環(huán)氧樹(shù)脂）則可能需要采用機(jī)械處理的方式對(duì)背靶表面處理后才能重復(fù)使用。
當(dāng)我們收到用戶提供的已使用過(guò)的背靶后，我們會(huì)首先進(jìn)行卸靶處理（如適用）并且對(duì)背靶進(jìn)行wq檢查，檢查的重點(diǎn)bao括背靶的平整度，完整性及密封性等。我們會(huì)通知用戶對(duì)背靶的檢查結(jié)果，如我們發(fā)現(xiàn)有需要維修的地方會(huì)書(shū)面通知客戶并提供維修報(bào)價(jià)
三、bao裝和運(yùn)輸
所有已貼合靶材bao裝在真空密封塑料袋中，并附有防潮劑。外bao裝一般為木箱，四周有防撞層，以保護(hù)靶材和背靶避免在運(yùn)輸和儲(chǔ)存過(guò)程中發(fā)生損壞。
廣州市尤特新材料有限公司是一家扎根于電子信息材料行業(yè)的高新技術(shù)企業(yè)，以生產(chǎn)信息存儲(chǔ)記錄材料為起點(diǎn)，順延產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的方向，深耕產(chǎn)業(yè)技術(shù)應(yīng)用的潛力，經(jīng)過(guò)11年的開(kāi)拓已發(fā)展成為擁有電子漿料（貴金屬鍍膜技術(shù)）、金屬薄膜靶材（真空鍍膜靶材技術(shù)）信息存儲(chǔ)記錄材料（激光讀寫(xiě)光盤(pán)生產(chǎn)技術(shù)）、工程塑料（PC再生造粒及改性技術(shù)）、觸控顯示材料（手機(jī)、平板觸摸屏材料）、石墨烯材料（導(dǎo)電、散熱）、UV化工材料（UV油墨、UV電子膠粘劑）這七大核心技術(shù)為中心的產(chǎn)業(yè)集團(tuán)。
靶材的主要性能要求
純度
純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。不過(guò)在實(shí)際應(yīng)用中，對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對(duì)靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。
雜質(zhì)含量
靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過(guò)程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。對(duì)于同一種靶材，晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。
