金屬靶材

     北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      金屬靶材材質分類：

      ⒈金屬靶材鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  高品質、高純靶材歡迎來電咨詢~~~

濺射靶材

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      濺射靶材的發展

      各種類型的濺射靶材薄膜材料在半導體集成 電路 (VLSI) 、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等 方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年 以來，濺射靶材及濺射技術的同步發展，極大地滿足了各種新 型電子元器件發展的需求。例如，在半導體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導體薄膜替鋁 膜布線：在平面顯示器產業中，各種顯示技術 (如LCD、PDP 、OLED及FED等)的同步發展，有的已 經用于電腦及計算機的顯示器制造；在信息存儲產業中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新 這些都對所需濺射靶材的質量提 出了越來越高的要求，需求數量也逐年增加。

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濺射靶材

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      濺射靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等；亦可應用于玻璃鍍膜領域；還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、裝飾用品等行業。

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