二手集成電路設(shè)備進(jìn)口報(bào)關(guān)，舊晶圓切割機(jī)進(jìn)口代理清關(guān)公司
集成電路設(shè)備通常可分為前道工藝設(shè)備（晶圓制造）、后道工藝設(shè)備（封裝與檢測）等。 因生產(chǎn)工藝復(fù)雜， 工序繁多，所以生產(chǎn)過程所需要的設(shè)備種類多樣，主要包括：（1） 單晶爐。 單晶爐主要用于拉制硅單晶錠，更大直徑的單晶錠是行業(yè)趨勢。（2）內(nèi)圓切片機(jī)。 切片機(jī)用于將單晶爐中拉制的單晶錠切片，主要是通過高速旋轉(zhuǎn)的鍍有金剛砂的刃具實(shí)現(xiàn)切削的目的。（3）倒角機(jī)。 倒角機(jī)負(fù)責(zé)將切片后的硅片的邊緣進(jìn)行磨削修整，從而獲得更光滑的外緣。（4）氣相外延爐。 通過外延可以在單晶襯底上生長一層新單晶，氣相外延爐為氣相外延生長提供特定的環(huán)境。（5）分子束外延系統(tǒng)。分子束外延是一種制備單晶薄膜的工藝，通過提供特定的環(huán)境，可以沿襯底材料晶軸方向逐層生長薄膜。（6）氧化爐。一般工作在 1200℃，提供半導(dǎo)體氧化的環(huán)境，可以完成氧化、擴(kuò)散、 淀積等多項(xiàng)工藝流程。（7）低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（LPCVD）。 把含有構(gòu)成薄膜元素的反應(yīng)物以氣態(tài)形式輸送到 LPCVD 設(shè)備的反應(yīng)室， 從而在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成固態(tài)薄膜的設(shè)備。（8） 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）。 通過在沉積室施加射頻電場，使氣體輝光放電形成等離子體， 隨后可以在襯底上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，沉積半導(dǎo)體薄膜材料。（9）單原子層沉積（ALD）。將物質(zhì)以單原子層的方式一層一層鍍在基底表面的一種方法，與化學(xué)沉積具有相似之處。（10）化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）。利用化學(xué)腐蝕和機(jī)械加載對(duì)加工過程中的晶圓或其他襯底材料進(jìn)行全局性的平坦化處理。（11）光刻機(jī)。 光刻機(jī)是制造過程中最重要的設(shè)備之一， 主要用于半導(dǎo)體制造工藝中對(duì)晶圓進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)和曝光，將掩模版上的圖形聚焦成像到涂有光刻膠的硅片上，實(shí)現(xiàn)具有高分辨率的圖形轉(zhuǎn)印。
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進(jìn)口舊設(shè)備需要提供的單證資料：
1、設(shè)備清單（品名、牌子、型號(hào)、數(shù)量、重量、尺寸、產(chǎn)地、貨值、生產(chǎn)年份、用途、工作原理等）
2、進(jìn)口舊機(jī)產(chǎn)品裝運(yùn)前預(yù)檢驗(yàn)證書，即中檢證書。
3、營業(yè)執(zhí)照、報(bào)關(guān)&報(bào)檢十位代碼
4、裝箱單、發(fā)888票、合同、提單等基本單證
舊設(shè)備進(jìn)口注意事項(xiàng)：
1、海關(guān)編碼歸類要準(zhǔn)確——不知道如何歸類的，可以微信咨詢我：135-3264-2798
2、設(shè)備申報(bào)信息要準(zhǔn)確，特別是要和銘牌一致——海關(guān)查驗(yàn)重點(diǎn)核對(duì)銘牌信息
3、申報(bào)貨值要真實(shí)有效——{zh0}能提前備好證明貨值的文件，比如：付匯證明、原廠fPp、網(wǎng)上銷售價(jià)格截圖、與賣方的郵件往來等
4、進(jìn)口口岸的選擇——除了考慮海關(guān)專業(yè)度及審價(jià)嚴(yán)格程度外，還要考慮商檢調(diào)離等問題
主要服務(wù)口岸：天津、上海、寧波、廈門、深圳、東莞、廣州、佛山等
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進(jìn)口部業(yè)務(wù)經(jīng)理：張展耀 （Martin Cheung）
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