mini型磁控濺射儀KT-Z1650PVD,該設備集磁控濺射與離子鍍膜技術為一體,對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩定性提供了解決方案。設備具有外形美觀、結構緊湊、占地面積小、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩定、易維護等特點。設備可適用于不銹鋼、水鍍五金件/塑膠件、玻璃、陶瓷等材質;可制備單質金屬層如鈦、鉻、銀、銅或金屬化合物膜層如TiN/TiCN/TiC/TiO2/TiAlN/CrN/ZrN/CrC等;可實現深黑色、爐內金、玫瑰金、仿金、鋯金、寶石藍、亮銀色等顏色。
mini型磁控濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應技術參數;
控制方式
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7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
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濺射電源
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直流濺射電源
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鍍膜功能
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0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
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功率
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≤1000W
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輸出電壓電流
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電壓≤1000V 電流≤1A
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真空
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機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa
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濺射真空
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≤30Pa
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擋板類型
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電控
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真空腔室
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石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
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樣品臺
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可旋轉φ62 (可安裝φ50基底)
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樣品臺轉速
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8轉/分鐘
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樣品濺射源調節距離
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40-105mm
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真空測量
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皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa)
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預留真空接口
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KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
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