真空小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD
? 設備一體化設計,占地面積小,價格優惠,性能穩定,使用維護成本低;
? 設備兼容有機蒸發與無機蒸發,多元共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜,功能強大,性能穩定;
? 適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜,也可用于生產線前期工藝試驗等;
? 適用于蒸發鍍膜與手套箱環境有機融合,實現蒸鍍、封裝、測試等工藝無縫對接,廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池/OPV有機太陽能電池及OLED薄膜等研究系統等
以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜
115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
真空小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD
控制方式
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7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
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加熱方式
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數字式功率調整器
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鍍膜功能
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0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
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最 大功率
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≤1200W
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最 大輸出電壓電流
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電壓≤12V 電流≤120A
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真空度
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機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa
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擋板類型
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電控
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真空腔室
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石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
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樣品臺
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可旋轉φ62 (最 大可安裝φ50基底)
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樣品臺轉速
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8轉/分鐘
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樣品蒸發源調節距離
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70-140mm
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蒸發溫度調節
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≤1800℃
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支持蒸發坩堝類型
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鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩
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預留真空接口
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KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
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可選配擴展
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機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa)
數顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa)
分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa)
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