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水冷型磁控濺射儀

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鄭州科探儀器設備有限公司

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水冷型磁控濺射儀水冷型磁控濺射儀圖片水冷型磁控濺射儀生產廠家

鄭州科探儀器設備有限公司

鄭州科探儀器設備有限公司是集開發、制造、經營為一體的材料設備創新型企業，如今公司的產品已經遍布國內大多數實驗室及科學院校，科探儀器已經成為老師同學和信任的品牌。   公司以科技創新為主，服務社會為宗旨，積極設計開發新型材料制備設備，奉獻于教育和科學，經過長期的研發和不斷地技術積累，擁有熱工，制造，控制相關技術專利10余項，為化學，物理，材料，電子，高分子工程，新材料制備和研發領域的科學研究提供了精良設備。公司通過和院校老師同學強強聯合，形成了有效的信息，技術交流平臺，為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持！

    目前公司已研發生產產品十多個系列幾十款產品，產品囊括實驗電爐   CVD供氣系統   等離子清洗機   小型離子濺射儀   小型蒸鍍儀  石英管真空封口真空探針臺  半導體等。主要適用于科研院校及工礦企業在新材料、新能源等領域物理特性及化學特性的研究，廣銷于各大院校，及材料研究所。

    公司與國內高校，科研院所有多層次的合作關系，建有開放實驗室，相關領域的教授、工程師、博士參與公司產品的研究和開發。我們秉承公司的發展理念，依靠嚴謹的技術研發能力，科學合理的生產工藝，精益求精的制造要求，全心全意做好產品質量和服務工作，科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。

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水冷型磁控濺射儀，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，最，大功率1000w直流磁控濺射

單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等

單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性，價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。

所配電源為1000W大功率直流電源，可用于高能量的金屬濺射鍍膜，根據實驗需求也可以選配其他規格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。

水冷型磁控濺射儀技術參數；

控制方式	7寸人機界面手動自動模式切換控制
濺射電源	直流濺射電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1000W
輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A
真空	機械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空	≤30Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺	可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉速	8轉/分鐘
樣品濺射源調節距離	40-105mm
真空測量	皮拉尼真空計（已安裝測量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口

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