此款等離子清洗機針對粉末或者顆粒的360度表面處理設備,通過旋轉機構帶動石英攪拌罐使樣品處于懸空位置達到360度清洗。
等離子清洗機作為一種微觀固體表面的處理設設備,是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子清洗機是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔等目的。
主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。
該清洗機內置高純石英倉體,采用了新型的電極結構設計和固態電源技術,使其有效容積增大,不同真空 氣體環境下容易匹配,且控制頻率穩定。真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內,即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作,特別適用科學實驗 樣品清洗 和教學。
設備型號
|
小號
|
中號
|
大號
|
滾筒
|
供電電源
|
AC220V(AC110V可選)
|
工作電流
|
整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵)
|
射頻電源功率
|
333
|
333
|
333
|
150w
|
射頻頻率
|
13.56MHz
|
頻率偏移量
|
<0.2MHz
|
特性阻抗
|
50歐姆,手動匹配
|
耦合方式
|
電容耦合
|
真空度
|
≤100Pa
|
腔體材質
|
高純石英
|
腔體容積
|
2L(內徑110MMX深度220MM)
|
2L(內徑110MMX深度220MM)
|
發發發
|
發發發
|
觀察窗內徑
|
Φ50
|
Φ50
|
Φ70
|
無
|
氣體流量
|
10—100ml/min(其他量程可選)
|
過程控制
|
過程自動控制
|
過程自動控制
|
過程自動控制
|
過程手動控制
|
清洗時間
|
自動開關
|
開蓋方式
|
鉸鏈側開式法蘭
|
外形尺寸
|
150*500*250mm
|
450*460*370mm
|
530*580*420mm
|
|
重量
|
222
|
22
|
222
|
40Kg
|
真空室溫度
|
小于65°C
|
冷卻方式
|
強制風冷
|
標配
|
KF16真空管1米,kf16卡箍2個,不銹鋼網匣1個,電源線一根,說明書一本。
|
