小型蒸鍍儀(Small-size Thermal Evaporation System)是一種利用高溫蒸發技術制備薄膜的設備,也被稱為真空蒸發沉積設備。該設備主要由蒸發源、真空室、控制系統和抽氣系統等主要組件組成。
蒸發源是將待蒸發材料固體化為塊狀,通過高溫蒸發制備薄膜的重要組件。通常使用的蒸發源材料包括金屬材料、氧化物、硅等材料,其形狀可以是塊狀、線狀、板狀等。
真空室是制備薄膜時的反應室,通過泵抽氣將室內氧氣、水蒸氣等揮發性雜質排出,以便保持真空環境。控制系統用于控制溫度、氣壓、蒸發速率和薄膜厚度等參數,確保薄膜制備的準確 性。抽氣系統則用于控制和維持真空環境。
小型蒸鍍儀通常用于實驗室或小批量生產,可以制備純凈、均勻和厚度可控的薄膜。它廣泛應用于電子器件、光學器件、納米材料制備等領域。同時,因為蒸鍍過程簡單、成本低廉,因此小型蒸鍍儀也被稱為最具經濟性的薄膜制備設備之一。