鄭科探 小型高溫真空蒸鍍儀：
是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動樣品擋板，靶臺旋轉，觸摸屏多段控制，工藝儲存等功能。
真空蒸發鍍膜包括以下基本過程：
（1）加熱蒸發過程：包括由凝聚相轉變為氣相的過程，每種蒸發物質在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。
（2）氣態原子或分子在蒸發源與基片之間運輸，即原子或分子在環境氣氛中的飛行過程。
（3）蒸發原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發，凝聚，成核，核生長，形成連續的膜。由于基板溫度遠
低于基板溫度遠低于蒸發源溫度，因此，氣態分子在基片表面將發生直接由氣態到固態的相轉變過程。
編輯
以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜
115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
技術參數
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控制方式
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7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
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加熱方式
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數字式功率調整器
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鍍膜功能
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0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
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功率
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≤1200W
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輸出電壓電流
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電壓≤12V 電流≤120A
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真空度
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機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa
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擋板類型
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電控
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真空腔室
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石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
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樣品臺
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可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
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樣品臺轉速
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8轉/分鐘
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樣品蒸發源調節距離
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70-140mm
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蒸發溫度調節
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≤1800℃
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支持蒸發坩堝類型
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鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩
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預留真空接口
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KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
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可選配擴展
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機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）
數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa）
分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）
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