濺射靶材分類

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      濺射靶材分類根據形狀可分為長靶，方靶，圓靶，異型靶根據成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材。根據應用不同又分為半導體關聯陶瓷靶材、記錄介質陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等根據應用領域分為微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電極靶材、封裝靶材、其他靶材。

石久高研專注15年提供高純靶材 高品質、高純靶材歡迎來電咨詢~~

金屬靶材

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。例如：蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  高品質、高純靶材歡迎來電咨詢~~~

濺射靶材使用指南及注意事項

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      濺射靶材保持真空腔體尤其是濺射系統潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學雜質含量超標經常是由于不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。  

石久高研專注15年提供高純靶材 高品質、高純靶材歡迎來電咨詢~~