金屬靶材

北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

濺射靶材使用指南及注意事項

靶材預濺射  

靶材預濺射建議采用純氬氣進行濺射，可以起到清潔靶材表面的作用。靶材進行預濺射時建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W小時/平方厘米。金屬類靶材的預濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個合理的功率加大速率為1.5W小時/平方厘米。  

在進行預濺射的同時需要檢查靶材起弧狀況，預濺射時間一般為10分鐘左右。如沒有起弧現象，繼續提升濺射功率到設定功率。根據經驗，金屬靶材可承受的濺射功率為25watts/平方厘米，陶瓷靶材為10watts/平方厘米。請同時參用戶系統操作手冊中關于濺射時真空腔體壓力的設定根據經驗，一般應確保冷卻水出水口的水溫應低于35攝氏度，但最重要的是確保冷卻水的循環系統能有效工作，通過冷卻水的快速循環帶走熱量，是確保能以較高功率連續濺射的一項重要保障。對于金屬靶材一般建議冷卻水流量為20LPM水壓在5GMP左右；對于陶瓷靶材一般建議水流量在30LPM水壓在9GMP左右。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  高品質、高純靶材歡迎來電咨詢~~~

金屬靶材

     北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      金屬靶材材質分類：

      ⒈金屬靶材鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  高品質、高純靶材歡迎來電咨詢~~~

濺射靶材的主要應用 

     北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      濺射靶材就是目標材料。用于高能激光中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。用于物理鍍膜中的濺鍍，主要有金屬靶材和陶瓷靶材

石久高研專注15年提供高純靶材 高品質、高純靶材歡迎來電咨詢~~