濺射靶材

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      濺射靶材的發展

      各種類型的濺射靶材薄膜材料在半導體集成 電路 (VLSI) 、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等 方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年 以來，濺射靶材及濺射技術的同步發展，極大地滿足了各種新 型電子元器件發展的需求。例如，在半導體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導體薄膜替鋁 膜布線：在平面顯示器產業中，各種顯示技術 (如LCD、PDP 、OLED及FED等)的同步發展，有的已 經用于電腦及計算機的顯示器制造；在信息存儲產業中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新 這些都對所需濺射靶材的質量提 出了越來越高的要求，需求數量也逐年增加。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  高品質、高純靶材歡迎來電咨詢~~~

靶材儲存

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

       高展金屬靶材所提供的靶材bao裝在雙層真空塑料袋中, 我們建議用戶將靶材無論是金屬或陶瓷類保存在真空bao裝中, 尤其是金屬靶材更需要保存在真空條件下，以避免帖合層氧化影響貼合質量。

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金屬靶材

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      濺射靶材使用指南及注意事項

      濺射準備

     保持真空腔體尤其是濺射系統潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學雜質含量超標經常是由于不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。  為保持鍍膜的成分特性，濺射氣體(氬氣或氧氣)必須清潔并干燥，濺鍍腔內裝入基材后便需將空氣抽出，達到工藝所要求的真空度。  暗區屏蔽罩，腔體壁及鄰近表面也需要保持潔凈。在清洗真空腔體時我們建議采用玻璃球拋丸法處理有污垢的部件同時用壓縮空氣qc腔體四周前期濺射剩余物，再用氧化鋁浸漬過的沙紙輕輕的對表面進行拋光。紗紙拋光后, 再用酒精去離子水清洗，同時建議使用工業吸塵器進行輔助清潔。  高展金屬生產的靶材采用真空密封塑料袋bao裝, 內置防潮劑。使用靶材時請不要用手直接接觸靶材。

      注意：使用靶材時請配帶干凈而且不會起絨的保護手套，一定要避免用手直接接觸靶材

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