濺射靶材

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      濺射靶材的發(fā)展

      各種類型的濺射靶材薄膜材料在半導體集成 電路 (VLSI) 、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等 方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年 以來，濺射靶材及濺射技術的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新 型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導體薄膜替鋁 膜布線：在平面顯示器產業(yè)中，各種顯示技術 (如LCD、PDP 、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已 經用于電腦及計算機的顯示器制造；在信息存儲產業(yè)中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新 這些都對所需濺射靶材的質量提 出了越來越高的要求，需求數量也逐年增加。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  高品質、高純靶材歡迎來電咨詢~~~

磁控濺射靶材

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

      磁控濺射靶材應用領域

      存儲用在儲存技術方面，高密度、大容量硬盤的發(fā)展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoF ~Cu多層復合膜是如今應用廣泛的巨磁阻薄膜結構。磁光盤需要的 T b F e C o合金靶材還在進一步發(fā)展，用它制造的磁光 盤具有存儲容量大，壽命長，可反復無接觸擦寫的特 點。如今開發(fā)出來的磁光盤，具有 T b F e C o / T a和 T b F e C o / Al 的 層復合膜結構， T bF eCo/AI結構的Kerr 旋轉角達到5 8，而T b F e Co f F a 則可以接近0.8。經過研究發(fā)現， 低磁導率的靶材高交流局部放電電壓 l 抗電強度。

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金屬靶材的前景

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

       鎢-鈦靶材作為光伏電池鍍膜材料是最近發(fā)展起來的，它作為第三太陽能電池的阻擋層是好的選擇。

　　由于 W-Ti 系列薄膜具有非常優(yōu)良的性能，近幾年來應用量急劇增加，2008年W-Ti 靶材世界用量已達到400t，隨著光伏產業(yè)的發(fā)展，這種靶材的需求量會越來越大。具行業(yè)預測其用量還會有很大的增加。國際太陽能電池市場以{bfb}的速度增長，目前世界有30 多公司參與太陽能市場的進一步開發(fā)， 并已有的公司產品投入市場。我國研發(fā)的超大尺寸、高密度、高純W-Ti 靶材，是屬于新型的離子濺射鍍膜靶材料。可廣泛應用于顯示屏的阻擋層或調色層，筆記本電腦的裝飾層、電池的封裝、太陽能（光伏）電池的阻擋層，具有很好市場前景和經濟效益。另一方面又可帶動我國鎢產業(yè)的產品升級換，獲得更高的附加值。

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