磁感應測量原理

當采用磁感應原理時，通過非鐵磁性涂層從探頭流向鐵磁基體的大小測量涂層的厚度。相應的磁電阻的大小也可以測量，以指示涂層的厚度。薄膜厚度越大，磁電阻越大，磁通量越小。基于磁感應原理的測厚儀原理上可在磁性基體上設置非磁性涂層厚度。超過500的基板滲透率的一般要求。如果涂層材料是磁性的，且要求基材的透氣性差異足夠大（如鋼板電鍍）。當軟芯的探頭放置在被測樣品上時，儀器自動輸出測試電流或測試信號。早期的產品使用指針式儀表來測量感應電動勢的大小。儀器放大信號并指示涂層的厚度。近年來，在電路設計中引入了頻率穩定、鎖相和溫度補償等新技術，并利用磁電阻對測量信號進行調制。在微機上引入了專利設計的集成電路，大大提高了測量的精度和重復性（一個數量級）。現代的磁感應測厚儀、磁力測量的測厚儀0.1um渦流原理的測厚儀的原理、誤差的誤差為1%，其范圍為10mm。

射線法和β射線法是一種非接觸、無損測量方法，但設備復雜、價格昂貴，測量范圍相對較小。由于放射源，用戶必須遵守放射防護規定。X射線法可用于測量極薄涂層、雙涂層和合金鍍層。β射線法適用于原子序數大于3的涂層測量。只有測量薄導體絕緣層厚度時，才采用電容法。

隨著科技的飛速發展，尤其是近幾年微機技術的引入，磁渦流法測厚儀已朝著微型化、智能化、多功能、高精度、實用化方向發展。測量分辨率達到0.1微米，精度可達1%，大大提高了分辨率。它適用范圍廣，操作簡單，成本低。是工業和科研中應用最為廣泛的測厚儀器。

無損方法既不破壞包層，也不破壞基片。它的檢測速度快，能使大量的檢查工作經濟化。

光學測厚儀是一種功能強大的非接觸式薄膜測量方法。當薄膜厚度和光學常數在測量系統的范圍內時，系統可以快速方便地測量。測量薄膜厚度時，對光譜反射有幾種常見的誤解。例如：

1、它只能測量薄膜的厚度，需要預先知道光學常數（折射率和消光系數）。

2、與橢偏儀相比，其精度較低；

3、只能同時測量一到兩個厚度。這些誤解反映了光譜反射儀沒有得到充分利用的事實。其使用方法和數據分析有待進一步深化。光譜反射和橢偏儀間接測量的方法，我們需要建立一個模型，通過調整參數（厚度和光學常數），使模型與實測反射率曲線達到配合，以薄膜厚度的反演計算和廣雪場數。橢圓偏振法考慮了光的偏振性，利用P波與s偏振光反射光的相位差。然而，光譜反射鏡不使用相位差。薄膜對相位差具有很高的靈敏度，但相位差的靈敏度隨薄膜厚度的增加而減小。