產品設計之——表面處理
軒盛模型
蝕刻通常也稱光華學蝕刻,指通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區域的保護膜去除,在蝕刻時接觸化學溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
曝光法蝕刻過程:工程根據圖形開出備料尺寸—材料準備—材料清洗—烘干—貼膜或涂布—烘干—曝光—顯影—烘干—蝕刻—膠膜—完成
網印法蝕刻過程:開料—清洗板材(不銹鋼或其它金屬材料)—絲網印—蝕刻—脫膜—完成
技術特點:
優點:可進行金屬表面細微加工,賦予金屬表面特殊效果
缺點:蝕刻時采用的腐蝕液體(酸、堿等)大多對環境具有危害。

金屬模型的表面處理技術:電鍍工藝 Plating
電鍍工藝:
電鍍是指在含有欲鍍金屬的鹽類溶液中﹐以被鍍基體金屬為陰極﹐通過電解作用﹐使鍍液中欲鍍金屬的陽離子在基體金屬表面沉積出來﹐形成鍍層的一種表面加工方法。鍍層性能不同于基體金屬﹐具有新的特征。根據鍍層的功能分為防護性鍍層﹐裝飾性鍍層及其它功能性鍍層。
